Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость
- Автор:
Гришаков, Владимир Владимирович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2003
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
142 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Диссертационная работа «Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость», автор — Гришаков, Владимир Владимирович, относится к типу: кандидатская диссертация по специальности 05.27.01. Работа подготовлена в городе Москва в 2003 году. Объем работы: 142 с. : ил.. Внутренний код товара: 01002619183. На странице представлены основные сведения о диссертации, включая название, автора, год, город, тип работы и шифр специальности.
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Моделирование дозовых и одиночных радиационных эффектов в кремниевых микро- и наноэлектронных структурах для целей проектирования и прогнозирования | Зебрев, Геннадий Иванович | 2009 |
| Схемотехника СВЧ - систем на кристалле с использованием кремниевых гетероструктурных биполярных транзисторов | Тимошенков, Валерий Петрович | 2013 |
| Свойства джозефсоновских переходов с прослойкой из сильно легированного аморфного кремния | Гудков, Александр Львович | 2003 |