Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость
- Автор:
Гришаков, Владимир Владимирович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2003
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
142 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Нелинейное взаимодействие модулированного света и переменного электрического поля в полупроводниковых фотоприемниках | Червяков, Георгий Георгиевич | 2000 |
| Деградационные процессы в тонкопленочных солнечных элементах | Зезин, Денис Анатольевич | 2014 |
| Изготовление и свойства эпитаксиальных пленочных гетероструктур на основе высокотемпературного сверхпроводника YBa2 Cu3 O x | Можаев, Петр Борисович | 1998 |