Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость
- Автор:
Гришаков, Владимир Владимирович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2003
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
142 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Конструктивно-технологический базис кремниевых микрофлюидных электромеханических микросистем | Пурцхванидзе, Ираклий Андреевич | 2004 |
| Разработка технологических основ формирования гибких электродов суперконденсаторов на основе полианилина, модифицированного соединениями кремния и циркония | Моисеева, Татьяна Анатольевна | 2016 |
| Разработка и исследование технологических основ создания массивов вертикально ориентированных углеродных нанотрубок для устройств микроэлектронной сенсорики | Климин, Виктор Сергеевич | 2013 |