Научные и методологические основы воспроизведения бинарных изображений в процессах поэлементной записи полиграфических репродукционных систем

• Автор: Севрюгин, Вадим Рудольфович
• Шифр специальности: 05.02.13
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 2013
• Место защиты: Москва
• Количество страниц: 296 с. : 15 ил.

Оглавление
Введение
Глава 1 Оценка воспроизведения бинарных элементов изображения в процессах поэлементной записи
1.1 Стадии формирования бинарных элементов изображения в процессах поэлементной записи
1.2 Виды искажений бинарных элементов изображения на вещественном носителе
1.3 Анализ существующих методов оценки искажений бинарных элементов изображения на вещественном носителе
1.3.1 Параметры качества элементов изображения на фотоформе
1.3.2 Репродукционно-графические характеристики
1.3.3 Тестовые шкалы и тест-объекты
1.3.4 Обзор научно-технической литературы, посвященной оценке воспроизведения бинарных изображений в процессах поэлементной записи
1.4 Выводы по главе
Г лава 2 Система сенситометрии процесса поэлементной записи бинарных
изображений
2.1 Анализ применения сенситометрических характеристик в процессах изготовления фотоформ и печатных форм
2.1.1 Процесс изготовления фотоформ
2.1.2 Формный процесс по технологии контактного копирования
2.1.3 Формный процесс по технологии поэлементной записи
2.2 Основные положения для разработки системы сенситометрии
2.3 Выбор меры действующего излучения
2.4 Выбор меры результата действия излучения
2.4.1 Выбор меры результата действия излучения для формных пластин плоской офсетной печати
2.4.2 Выбор обобщенной меры результата действия излучения
2.5 Сенситометрическая кривая процесса поэлементной записи
2.5.1 Определение и правила оформления графиков
2.5.2 Методика построения
2.6 Параметры сенситометрической кривой
2.6.1 Параметры воспроизведения
2.6.2 Параметры переходной зоны
2.6.3 Параметры контура
2.7 Энергетическая и спектральная чувствительность
2.8 Выводы по главе
Г лава 3 Система структурометрии процесса поэлементной записи
3.1 Анализ применения характеристик и методов фотографической структурометрии для оценки процессов поэлементной записи
3.2 Основные положения для разработки системы структурометрии
3.3 Функции воспроизведения
3.3.1 Система координат, способы задания и отображения
3.3.2 Функция воспроизведения пикселя
3.3.3 Методика расчета произвольного изображения
3.3.4 Функции воспроизведения строки и столбца
3.3.5 Краевые функции направлений кадровой и строчной разверток
3.3.6 Свойства функций воспроизведения
3.3.7 Эквивалентная функция воспроизведения пикселя
3.4 Математическая модель формирования энергетической плашки
3.5 Свойства энергетической плашки
3.6 Растровый метод процесса поэлементной записи
3.6.1 Расчет абсцисс точек краевых функций
3.6.2 Расчет ординат точек краевых функций
3.7 Аналитические выражения описания краевых функций
3.8 Выводы по главе
Глава 4 Комплекс методов расчета, оценки и исследования способности процесса поэлементной записи воспроизводить элементы изображения

4.1 Балансная растровая структура
4.2 Энергетические параметры элементов изображения
4.2.1 Энергетическая плотность ядра и пиксельный диапазон воспроизведения
4.2.2 Энергетические контур элемента изображения, значение тона, усиление тона и коэффициент искажения
4.2.3 Ширина переходной зоны
4.3 Пиксельные функции и их параметры
4.3.1 Пиксельные функции ядра
4.3.2 Балансные кривые усиления тона
4.3.3 Пиксельные функции коэффициента искажения
4.3.4 Пиксельная функция ширины переходной зоны
4.4 Приближенная оценка энергетического усиления тона и ширины переходной зоны
4.5 Энергетические функции и их параметры
4.5.1 Правила оформления графиков
4.5.2 Энергетическая функция пиксельного диапазона
4.5.3 Энергетическая функция усиления тона
4.5.4 Энергетическая функция ширины переходной зоны
4.6 Предельные и рабочие параметры качества воспроизведения
4.7 Примеры оценки и сравнения способности процессов поэлементной записи воспроизводить бинарные элементы изображения
4.8 Выводы по главе
Г лава 5 Исследования способности процесса поэлементной записи воспроизводить бинарные элементы изображения
5.1 Исследование влияния характера распределения плотности энергии пикселя на параметры энергетической плашки
5.2 Исследование способности процесса поэлементной записи обеспечивать основные рабочие свойства элементов изображения

По результатам проведенного анализа можно сделать следующие выводы:
1. В отечественной полиграфии в качестве основной меры действия излучения на копировальный слой принята интегральная светочувствительность, оценка которой проводится по достижению заранее заданных рабочих свойств, приобретенных или сохраненных за полем полутоновой ступенчатой шкалы с критериальной оптической плотностью. Использование в качестве меры действия излучения толщины слоя и характеристической кривой как наиболее наглядного способа ее выражения, а также энергетических величин для определения экспозиции не получило широкого распространения.
2. Международный стандарт 150 [125] приводит метод построения кривой зависимости толщины копировального слоя на печатной форме от логарифма экспозиции, где относительная толщина определяется через относительную оптическую плотность слоя. Однако характеристическая кривая используется только для расчета числа переходных полей, сигнализирующих об изменении условий обработки.
3. Широкое распространение получило копирование полутоновой ступенчатой шкалы на формную пластину с визуальной оценкой толщины слоя, оставшегося после проявления на экспонированных полях на форме. Для технологии поэлементной записи шкала может имитироваться записью с рядом экспозиций равномерного плашечного или пробельного поля. Кроме визуальной оценки, рекомендуются методы проверки отсутствия слоя и полноты его отверждения опытным путем.
4. В настоящее время для формных пластин обычно приводятся только две сенситометрических характеристики: длина волны или диапазон длин волн в качестве характеристики спектральной чувствительности и рекомендуемая рабочая экспозиция как критерий энергетической чувствительности. В редких случаях при определении рабочей экспозиции для наглядности строят характеристическую кривую как зависимость оптической или относительной оптической плотности от логарифма экспозиции.