Психолого-педагогические условия совершенствования профессиональной деятельности педагогов по организации дополнительного образования учащихся в условиях средней школы

• Автор: Голодова, Ольга Владимировна
• Шифр специальности: 13.00.08
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2002
• Место защиты: Ульяновск
• Количество страниц: 192 с. : ил

ВВЕДЕНИЕ. Постановка задачи математического и компьютерного моделирования формирования фотолитографического изображения. Проблемы моделирования формирования фотолитографического изображения
1. ВЫВОДЫ. Математические модели формирования фотолитографического изображения. Математическая модель процесса фотолитографической проекции. Представление комплексной амплитуды монохроматического поля через суперпозицию плоских волн. Векторная модель формирования изображения при частичнокогерентном освещении. Выбор узлов дискретизации функций при моделировании формирования изображения. Быстрый алгоритм . ВЫВОДЫ. ВЫВОДЫ. Развитие оптической литографии имеет уже тридцатилетнюю историю, которая начиналась с технологии контактной печати ii 9, с минимальным размером элементов на микросхеме мкм. С начала ых годов активно используется и развивается проекционная оптическая литография i ii 9, , Приложение 1, которая к году позволила добиться в массовом производстве микросхем минимального размера элементов равного 0.


Математическая модель процесса фотолитографической проекции. Представление комплексной амплитуды монохроматического поля через суперпозицию плоских волн. Векторная модель формирования изображения при частичнокогерентном освещении. Выбор узлов дискретизации функций при моделировании формирования изображения. Быстрый алгоритм . ВЫВОДЫ. ВЫВОДЫ. Развитие оптической литографии имеет уже тридцатилетнюю историю, которая начиналась с технологии контактной печати ii 9, с минимальным размером элементов на микросхеме мкм. С начала ых годов активно используется и развивается проекционная оптическая литография i ii 9, , Приложение 1, которая к году позволила добиться в массовом производстве микросхем минимального размера элементов равного 0. Сложную эволюцию прошли фотолитографические установки, основными разработчиками которых являются сегодня такие фирмы как , i , V i ранее i 6, i с оптикой i . В зависимости от способа совмещения фотошаблона и полупроводниковой пластины с фоторезистом и последовательности выполнения технологических операций можно выделить два класса фотолитографических инструментов повторитепи и сканеры , . Но независимо от типа используемого инструмента процессы фотолитографической проекции в них идентичны. Современная фотолитографическая установка Рис. Рис. В типовой фотолитографической установке освещение шаблона осуществляется по схеме Келера iii 1, И, . Поле, излучаемое источником, распространяется через осветительную оптическую систему, которая строит изображение источника в плоскости зрачка проекционного объектива.