Фотоинжекция водорода в твердых телах

• Автор: Гаврилюк, Александр Иванович
• Шифр специальности: 01.04.10
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 2002
• Место защиты: Санкт-Петербург
• Количество страниц: 370 с. : ил

Содержание
Список используемых сокращений
ВВЕДЕНИЕ
1. ОСНОВНЫЕ ИДЕИ ДИССЕРТАЦИОННОЙ РАБОТЫ
1.1. Прямая фотоинжекция водорода в твердых телах
1.2. Фотоинжекция водорода в твердых телах с помощью инжектора
1.3. Выводы по главе
2. МОЛЕКУЛЫ-ДОНОРЫ ВОДОРОДА И ИХ ПРЕВРАЩЕНИЯ В ПРОЦЕССЕ ФОТОИНЖЕКЦИИ ВОДОРОДА В ТРИОКСИДЕ ВОЛЬФРАМА
2.1. Молекулы, используемые в качестве доноров водорода
2.2. Методы адсорбции органических молекул на поверхности оксидов переходных металлов
2.3. ИК- спектры молекул диметилформамида
2.4. ИК- спектры аморфных плёнок с адсорбированным на их поверхности диметилформамидом
2.5. Изменение ИК-спектров адсорбированных молекул диметилформамида при облучении образцов в вакууме
2.6. Изменение ИК-спектров адсорбированных молекул диметилформамида при облучении образцов на воздухе
2.7. Выводы по главе
3. ВЛИЯНИЕ РАЗЛИЧНЫХ ФАКТОРОВ НА ЭФФЕКТИВНОСТЬ ФОТОИНЖЕКЦИИ ВОДОРОДА В ОКСИДАХ ПЕРЕХОДНЫХ МЕТАЛЛОВ
3.1. Виды пленок WOз, используемых при фотоинжекции водорода, и методы их

препарирования
ф 3.2. Усиление фотохромизма в пленках W03 при фотоинжекции водорода
3.3. Описание методики резонансной ядерной реакции 2D (3Не, р)а
3.4. Влияние удельной поверхности пленок на фотохромную светочувствительность
3.5. Влияние кислородных вакансий на фотохромую светочувствительность пленок
3.6. Влияние термического отжига на фотохромную светочувствительность ПТТ W03
3.7. Зависимость ФХСЧ пленок от положения уровня Ферми
3.8. Коэффициент диффузии протона
3.9. Влияние температуры подложки на фотохромную светочувствительность аморфных пленок триоксида вольфрама
3.10. Влияние давления паров метанола на фотохромную светочувствительность пленок W
» 3.11. Влияние интенсивности облучения на эффективность ФИВ в плёнках WO
3.12. Особенности фотохромизма в АП W03 с адсорбированным .диметилформамидом
3.13. Выводы по главе
4. ПРИРОДА ФОТОИНДУЦИРОВАННОГО СОСТОЯНИЯ ПЛЕНОК W
4.1. Структурные особенности пленок WO
4.2. Природа полосы фотоиндуцированного поглощения
4.2.1. Метод определения оптических констант плёнок
4.2.2. Изменения оптических и электрических характеристик при фотоинжекции водорода
4.2.3. Модель центров поглощения при фотоинжекции водорода в WO
4.2.4. Фотоинжекция водорода при низких температурах
ф 4.3.0 механизме прямой фотоинжекции водорода в пленках W

4.4. Модели центров поглощения в плёнках W
4.5. Изменения оптических параметров аморфных пленок WO3, наблюдаемые в ультрафиолетовой и инфракрасной областях спектра при фотоинжекции водорода
4.6. Выводы по главе
5. ФОТОИНЖЕКЦИЯ ВОДОРОДА В ПЛЁНКАХ ТРИОКСИДА МОЛИБДЕНА
5.1. Усиление фотохромного эффекта в АП МоОз
5.2. Фотоинжекция водорода в АП Мо03, полученных испарением в парах ДМФА
5.3. Изменения в ИК- спектрах пленок ОПМ, вызванные ФИВ
5.4. Особенности аморфных пленок МоОз, препарированных в парах ДМФА
5.5. Особенности низкотемпературной ФИВ в АП МоОз, полученных испарением в парах ДМФА
5.6. Спектральная эффективность ФИВ в АП МоОз, препарированных в парах

5.7. Выводы по главе
6. ФОТОИНЖЕКЦИЯ ВОДОРОДА В ТОНКИХ ПЛЕНКАХ V2Os
6.1. Фотоинжекция водорода в аморфных пленках V2Os, полученных с помощью термического испарения в вакууме
6.2. Фотоинжекция водорода в пленках V2O5, полученных с помощью „золь-гель“ технологии
6.3. Выводы по главе
7. ФОТОИНЖЕКЦИЯ ВОДОРОДА В ОКСИДНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУРАХ
7.1. Фотоинжекция водорода в гетероструктуре V02 - WO
7.2. Фотинжекция водорода в гетероструктуре, состоящей из поликристаллического
и аморфного слоев W
Кроме того, АП WOз, нанесенные на подложку при температурах близких к комнатной, имеют недостаточно хорошую адгезию к подложке и часто повреждаются механически при контакте со слоем жидкости. Облучение в парах также облегчает удаление летучих продуктов фотолиза адсорбированных молекул.
Рис.2.2 иллюстрирует эффективность ФИВ при использовании ряда органических соединений в роли доноров водорода. Эффективность ФИВ в измерялась по изменениям оптической плотности материалов ДОтщ, которые наблюдались в зависимости от времени облучения I полным спектром ртутной лампы ПРК-4. Детально условия облучения будут описаны в главе 3. До облучения и после каждой экспозиции снимались спектры пропускания Т образцов, которые затем пересчитывались в спектры оптической плотности И:
0 = 18ф. (2.2)
По измеренным спектрам определялось значение оптической плотности в максимуме возникающей при ФИВ полосы оптического поглощения ( Еии* =1 эВ ) и вычислялись значения максимальной фотоиндуцированной оптической плотности ДОт*,:
АРгаи“ Пщах По тах (2.3)
где: По „их - оптическая плотность в максимуме фотоиндуцированной полосы поглощения до облучения.
На рис.2.2 приведены характеристические кривые, представляющие собой зависимости АЛпих от времени облучения I Кривые подобного рода будут часто использоваться в работе для сравнительных характеристик эффективности ФИВ ( фоточувствительности образцов ). Результаты получены для поликристаллических пленок ( ПП ) примерно одинаковой толщины, препарированных в одном технологическом цикле. Технология приготовления образцов будет описана ниже. Характеристические кривые снимались в откачанной кювете при одинаковом парциальном давлении для различных молекул доноров водорода. Условия