Исследование анизотропных свойств магнитостатических волн в плоскослоистых структурах, содержащих намагниченную ферритовую пленку

• Автор: Вяткина, Светлана Александровна
• Шифр специальности: 01.04.03
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2013
• Место защиты: Ростов-на-Дону
• Количество страниц: 175 с. : ил.

СОДЕРЖАНИЕ
СПИСОК УСЛОВНЫХ СОКРАЩЕНИЙ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. РАСШИРЕНИЕ ПУЧКА ОБРАТНЫХ ОБЪЕМНЫХ МАГНИТОСТАТИЧЕСКИХ ВОЛН, ИЗЛУЧАЕМОГО КОНЕЧНЫМ ЛИНЕЙНЫМ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕМ
1.1. Параметры исследуемой ФДМ-структуры
1.2. Дисперсионные характеристики
1.3. Метод определения магнитостатического потенциала
1.4. Расчет профилей пучка ООМСВ
1.5. Сравнение дифракционных профилей
1.6. Выводы
ГЛАВА 2. ЭЛЕКТРОМАГНИТНЫЕ ВОЛНЫ В КАСАТЕЛЬНО НАМАГНИЧЕННОЙ ФЕРРИТОВОЙ ПЛЕНКЕ
2.1. Модель структуры и основные положения
2.2. Дисперсионное уравнение
2.3. Численный анализ дисперсионных характеристик магнитостатических волн, распространяющихся под углом к полю подмагничивания
2.3.1. Электромагнитные волны, возбуждаемые в частотном диапазоне поверхностных магнитостатических волн
2.3.2. Электромагнитные волны, возбуждаемые в частотном диапазоне обратных объемных магнитостатических волн
2.3.3. Изочастотные кривые магнитостатических волн, распространяющихся под углом к полю подмагничивания
2.4. Дисперсионные характеристики поверхностных магнитостатических волн в области малых волновых чисел
2.5. Дисперсионные характеристики обратных объемных магнитостатических волн в области малых волновых чисел
2.6. Экспериментальные дисперсионные характеристики магнитостатических волн в области малых волновых чисел
2.6.1. Экспериментальные дисперсионные характеристики поверхностных магнитостатических волн
2.6.2. Экспериментальные дисперсионные характеристики обратных объемных магнитостатических волн
2.7. Выводы
ГЛАВА 3. ФОКУСИРОВКА И НАПРАВЛЕНИЕ ГРУППОВЫХ СКОРОСТЕЙ ЭМВ, РАСПРОСТРАНЯЮЩИХСЯ В КАСАТЕЛЬНО НАМАГНИЧЕННОЙ ФЕРРИТОВОЙ ПЛЕНКЕ
3.1. Модель и численные параметры структуры
3.2. Фокусировка ЭМВ, возбуждаемых в касательно намагниченной ферритовой пленке точечным преобразователем
3.2.1. Метод расчета диаграмм фокусировки
3.2.2. Диаграммы фокусировки ПЭМВ
3.2.3. Диаграммы фокусировки ООЭМВ
3.3. Направление групповых скоростей ЭМВ, возбуждаемых бесконечно длинным полосковым преобразователем
3.3.1. Направление групповых скоростей ПЭМВ
3.3.2. Направление групповых скоростей ООЭМВ
3.4. Выводы
ГЛАВА 4. МЕТОД РАСЧЕТА ЭЛЕКТРОМАГНИТНЫХ ПОЛЕЙ, ВОЗНИКАЮЩИХ ПРИ ДИФРАКЦИИ МСВ НА ЩЕЛЕВОМ ОТВЕРСТИИ В МЕТАЛЛИЧЕСКОМ ЭКРАНЕ В ФДМ-СТРУКТУРЕ
4.1. Модель структуры
4.2. Метод определения компонент электромагнитного поля, возбуждаемого в слоистых структурах сторонними источниками тока
4.3. Область над металлическим экраном
4.4. Область под металлическим экраном
4.4.1. Диэлектрический слой
4.4.2. Матрица перехода для касательно намагниченного слоя феррита
4.4.3. Матрица перехода для нормально намагниченного слоя феррита
4.5. Электромагнитное поле в структуре, содержащей касательно намагниченную ФП
4.6. Электромагнитное поле в структуре, содержащей нормально намагниченную ФП
4.7. Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

^ф{у,г)
^ф(ум)
у, мм
У, МЛІ
Рис. 1.8. Расчетные фазовые профили Zф{у,г) пучка ООМСВ
на поверхности пленки ЖИГ в структуре с зазором между ферритовым
слоем и металлическим экраном 1 = 2.5 мкм: (а) — при
подмагничивающем поле Н = 500 Э на частоте / = 2.65 ГГц; (б) — при значении поля подмагничивания Н = 1500 Э на частоте / = 5.729 ГГц.