Ядерно-физические методы для изучения модифицированных приповерхностных областей материалов и тонких пленок

• Автор: Лебедев, Виктор Михайлович
• Шифр специальности: 01.04.01
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 2010
• Место защиты: Санкт-Петербург
• Количество страниц: 233 с. : ил.

СОДЕРЖАНИЕ Содержание
Введение
Глава 1. Измерительно-аналитический комплекс для исследования
материалов методами ядерного микроанализа
§ 1. Ускорительный комплекс- ЭСУ-
§ 2. Измерительно-аналитический комплекс для исследования
материалов на базе ЭСУ-
§ 3. Кристалл-дифракционный спектрометр
Выводы к главе
Глава 2. Ядерно-физические методы элементного анализа на пучках
протонов и дейтронов
§ 1. Ионный рентгеноспектральный анализ (НРСА)
§ 2. Метод спектрометрии обратного резерфордовского рассеяния
§ 3. Метод спектрометрии ядерных реакций
§ 4. Измерение массовой толщины пленок
§ 5. Комбинирование неразрушающих методов ядерного
микроанализа на пучках протонов и дейтронов
§ 6. Применение методов спектрометрии ядерных реакций с дейтронами и протонами для определения элементов
с малым атомным номером
Выводы к главе
Глава 3. Исследование приповерхностных слоев модифицированных высокими дозами облучения анодов газонаполненных
детекторов
§ 1. Многопроволочные пропорциональные камеры
§ 2. Ядерно-физические методы исследования анодных электродов газонаполненных детекторов
§ 3. Построение концентрационных профилей из
экспериментальных данных по ядерным реакциям
§ 4. Исследование приповерхностного слоя необлученных
покрытых золотом вольфрамовых проволочек
§ 5. Исследование деградации анодов прототипов пропорциональных
камер для мюонной системы детектора CMS
§ 6. Исследование старения анодных проволочек дрейфовых
трубок при высоких дозах облучения для детектора ATLAS
Выводы к главе
Глава 4. Пленки аморфного гидрогенизированного кремния,
модифицированного эрбием и кислородом a-SiOx:H . ..
§ 1. Аморфный гидрогенизированный кремний
§ 2. Методы изготовления пленок аморфного гидрогенизированного кремния, модифицированного эрбием и кислородом
§ 3. Определение элементного состава пленок аморфного
гидрогенизированного кремния a-SiOx:H
§ 4. Определение концентрации кислорода, связанного с атомами
эрбия в пленке a-SiOx:H
§ 5. Элементный состав пленок a-SiOx:H
§ 6. Эрбиевые кластеры в пленке a-SiOx:H
Выводы к части
Глава 5. Исследование растворимости комплексных соединений редкоземельных элементов Ln(thd)3 в пленках халькогенидного стеклообразного полупроводника селенида мышьяка
§ 1. Методы изготовления пленок ХСП, легированных КС РЗЭ
§ 2. Методы исследования элементного состава пленок ХСП,
легированных КС Ln(thd)
§ 3. Влияние температуры испарения на состав исследуемых пленок
ХСП и фотолюминесценцию эрбия

§ 4. Исследование модифицированных комплексными соединениями 1лг(1М)з (Ьп=Ег, Ей, ТЬ) пленок АьоБез методами ядерного
микроанализа
§ 5. Растворимость Ьп(11к1)з (1п=Еи, ТЬ, Ег) вАьгБез
§ 6. Фотолюминесценция тонких халькогенидных пленок Аз28е3,
модифицированных комплексными соединениями Еп(11гс1)з
Выводы к главе
Глава 6. Исследование взаимодействия дейтериевой плазмы с первой
стенкой в сферическом токамаке Глобус-М
ТОКАМАКЕ «ГЛОБУС-М»
§ 1. Материалы для первой стенки термоядерного реактора
§ 2. Размещение образцов в вакуумной камере токамака
§ 3. Подготовка к экспериментам с плазмой внутренних стенок
вакуумной камеры токамака «Глобус-М»
§ 4. Исследование структуры приповерхностного слоя
взаимодействующих с плазмой углеродных тайлов в диверторе
сферического токамака «Глобус-М»
§ 5. Исследование взаимодействия плазмы с незащищенной
внутренней поверхностью в диверторе сферического токамака
«Глобус-М»
§ 6. Определение дейтерия, накопленного в стальных и
углеродных образцах дивертора токамака «Глобус-М»
Выводы к главе
Заключение
Список цитируемой литературы

обратного резерфордовского рассеяния и ядерных реакций за счет наклонной к поверхности образца траектории частиц пучка и заряженных продуктов реакции. Точность установки угла составляет ~1 — 2°.
Рис. 13. Взаимное положение в пространстве направления пучка, положения мишени и детектора заряженных частиц: 1 - направление пучка ионов -от ускорителя, 2 -мишень (а — нормальное, б - скользящее падение пучка частиц на мишень), 3 — детектор заряженных частиц (расположен в плоскости 1-4), 4 — ось вращения мишени.
Вакуум в камере в процессе измерений составляет ~10'6 Тор; он поддерживается отдельным вакуумным постом. Наличие этого поста позволяет производить перезарядку мишенного устройства и смену детекторов без нарушения вакуума в основном ионопроводе ускорительной системы. Смена мишеней занимает один час.