+
Действующая цена700 499 руб.
Товаров:
На сумму:

Электронная библиотека диссертаций

Доставка любой диссертации в формате PDF и WORD за 499 руб. на e-mail - 20 мин. 800 000 наименований диссертаций и авторефератов. Все авторефераты диссертаций - БЕСПЛАТНО

Расширенный поиск

Исследование полупроводниковых эпитаксимальных слоев и квантово-размерных структур в системах Ga-In-P-As и Al-Ga-As методом фотопропускания

  • Автор:

    Ивкин, Андрей Николаевич

  • Шифр специальности:

    01.04.10

  • Научная степень:

    Кандидатская

  • Год защиты:

    1998

  • Место защиты:

    Санкт-Петербург

  • Количество страниц:

    138 с. : ил.

  • Стоимость:

    700 р.

    499 руб.

до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы


ОГЛАВЛЕНИЕ

ВВЕДЕНИЕ
ОСНОВНЫЕ ОБОЗНАЧЕНИЯ И СОКРАЩЕНИЯ
Глава 1. ФОТОПРОПУСКАНИЕ КАК МЕТОД ИССЛЕДОВАНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР (ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ)
§1.1. Основные сведения о методе фотопропускания
§1.2. Механизмы фотопропускания
§1.3. Эффект Франца-Келдыша вблизи края поглощения
§1.4. Экситонные эффекты
§1.5. Фотопропускание квантово-размерных структур
1.5.1. Уровни размерного квантования в квантовых ямах
1.5.2. Экситонные эффекты
§1.6. Экспериментальные методики фотопропускания
ВЫВОДЫ
Глава 2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ УСТАНОВКА И ХАРАКТЕРИСТИКИ ИССЛЕДОВАННЫХ ОБРАЗЦОВ
§2.1. Функциональная схема установки фотоотражения и фотопропускания
§2.2. Технические данные установки
§2.3. Градуировка установки и выбор фотоприемников
§2.4. Автоматизация эксперимента
§2.5. Методика измерений
§2.6. Характеристики исследованных образцов
ВЫВОДЫ
Глава 3. ФОТОПРОПУСКАНИЕ КВАНТОВО - РАЗМЕРНЫХ ГЕТЕРОСТРУКТУР
§3.1 Гетероструктуры вахІпі-хРуАзі-у/ІпР
§3.2 Гетероструктуры АІхОаі-хАз/ОахІпі-хАз/ОаАз
§3.3. Анализ спектров фотопропускания
§3.4. Влияние электрического поля, флуктуаций состава івердого раствора и ширины квантовой ямы на спектры фотопропускания активной области СахІПі-хРуАзі-у/ІпР лазерных структур
§3.5. Диагностика лазерных структур
ВЫВОДЫ
Глава 4. ФОТОПРОПУСКАНИЕ НА СВЯЗАННЫХ ЭКСИТОНАХ В
ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЯХ СаР.Ы И СаАвихР
§4.1 Экситоны, связанные на изоэлектронных ловушках азота в фосфиде
галлия и твердых растворах арсенида-фосфида галлия
§4.2 Методика приготовления и характеристики образцов
§4.3 Эпитаксиальные слои ОаР:1Х
§4.4 Эпитаксиальные слои СаАзихРх
ВЫВОДЫ
Глава 5. ФОТООТРАЖЕНИЕ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ
СаАзі-хРх
§5.1 Фотоотражение в рамках эффекта Франца-Келдыша
§5.2 Определение состава твердого раствора СаАБі-хРх и напряженности
электрического поля
ВЫВОДЫ
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

ВВЕДЕНИЕ
Современный этап развития полупроводниковой микро- и наноэлектроники характеризуется переходом к многослойным и низкоразмерным структурам, таким, как различного рода гетеропереходы, структуры с квантовыми ямами, сверхрешетки, квантовые нити и точки. Взаимодействие размерно-квантованных электронных состояний в сверхтонких эпитаксиальных слоях толщиной от единиц до сотен межатомных расстояний с близко расположенной поверхностью или интерфейсом во многом определяет электрические и оптические свойства таких объектов. В связи с этим принципиальное значение приобретает разработка методик исследования и контроля параметров таких слоев и структур. Применяемые для этих целей методы электронной микроскопии, Оже-спектроскопии и электронно-зондового анализа весьма трудоемки и требуют дорогостоящего оборудования. Измерения фото- и электролюминесценции, позволяющие получить информацию об энергетическом спектре носителей заряда в полупроводниковых структурах, не вполне его отражают вследствие передачи возбуждения на более низкоэнергетические состояния. Развиваемый в работе метод фотопропускания, как один из вариантов методик модуляционной оптической спектроскопии, является неразрушающим, обладаем высокой чувствительностью, не требует помещения образца в глубокий вакуум и сравнительно прост в практической реализации. Возможны измерения в течение всего периода выращивания структуры на различных этапах технологического процесса.
В качестве объектов исследования были выбраны структуры на базе полупроводниковых соединений А3В5. Интерес к данным материалам объясняется их широким использованием в современной нано

E/Re
Рис. 1.5. Зависимость энергии связи экситона в единицах эффективного экситонного Ридберга от отношения ширины квантовой ямы ЬУ к объемному экситонному радиусу Бора [33].

300 U Â
Рис. 1.6. Зависимость энергии связи основного состояния экситона, связанного с тяжелой (а) и легкой (б) дыркой, от толщины квантовой ямы гетероструктуры СаАз/СавчАКАБ. а также в модели бесконечных барьеров [35].

Рекомендуемые диссертации данного раздела

Название работыАвторДата защиты
Исследование явлений самоорганизации при эпитаксии гетероструктур Жаринова, Наталья Николаевна 2001
Эффекты низкоэнергетического ионного воздействия при эпитаксии Ge на Si Смагина, Жанна Викторовна 2008
Время генерации: 0.101, запросов: 966