Построение исполнительных систем оборудования электронной техники на основе волнового движения

• Автор: Василенко, Николай Васильевич
• Шифр специальности: 05.27.07
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 1999
• Место защиты: Красноярск
• Количество страниц: 430 с. : ил.

1.1. Анализ перспектив развития исполнительных систем вакуумного напылительного оборудования

1.2. Внутрикамерные и приводные механизмы

исполнительных систем оборудования электронной техники

1.3. Опытнопромышленные образцы оборудования

электронной техники

1.4. Структурные схемы исполнительных систем оборудования электронной техники

1.5. Постановка задачи исследований

Глава 2. ПОСТРОЕНИЕ ИСПОЛНИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМ

ОБОРУДОВАЛИ Я ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ НА ОСНОВЕ ШАРИКОВЫХ ЗУБЧАТОТОРЦЕВЫХ ПЕРЕДАЧ

2.1. Модель процесса вакуумного осаждения вещества на поверхности подложки

2.2. Шариковые зубчатоторцевые передачи в качестве

механизма вращательнопоступательного перемещения
2.3. Анализ работоспособности основных элементов
зацепления шариковых зубчатоторцевых передач
2.4. Влияние эксплуатационного износа и технологических погрешностей на кинематическую точность шариковых зубчатоторцевых передач
2.5. Разработка инженерной методики расчета шариковых зубчатоторцевых передач
Выводы по главе 2
Глава 3. ПОСТРОЕНИЕ ИСПОЛНИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМ
ОБОРУДОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ НА
ОСНОВЕ ВОЛНОВЫХ РЕЗЬБОВЫХ ПЕРЕДАЧ
3.1. Особенности волнового винтового движения в ВРИ
3.2. Аналитическое выражение составляющих погрешностей положения ведомого звена ВРП
3.3. Исследование характера распределения зазоров между
витками гибкого и жесткого звеньев ВРП
3.4. Анализ влияния усилий в зацеплении на точностные характеристики ВРП
3.5. Исследование радиальной жесткости регулируемых генераторов ВРП
Выводы по главе 3. 9
Глава 4. ПОСТРОЕНИЕ ИСПОЛНИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМ
ОБОРУДОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ НА
ОСНОВЕ ВОЛНОВЫХ РЕЕЧНЫХ МЕХАНИЗМОВ
4.1. Классификация ВРМ. Выбор базовой схемы и анализ
ее особенностей
4.2. Исследование геометрических и кинематических
параметров ВРМ
4.3. Оптимизация параметров ВРМ по тяговой
способности и к.п.д.
4.4. Исследование жесткости ВРМ
4.5. Оценка долговечности ВРМ и инерционных параметров динамической системы
Выводы по главе 4
Глава 5. НАУЧНЫЕ ОСНОВЫ ВЫБОРА МАТЕРИАЛОВ ПАР ТРЕНИЯ ИСПОЛНИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМ ОБОРУДОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ НА ОСНОВЕ ВОЛНОВОГО ДВИЖЕНИЯ
5.1. Общие положения
5.2. Принципы подбора материалов для узлов трения, работающих в вакууме
5.3. Механизмы изнашивания и разрушения
контактирующих поверхностей
5.4. Пути повышения износостойкости деталей пар трения, работающих в вакууме
5.5. Твердосмазочные покрытия для работы в вакууме
Выводы по главе 5
Заключение. Общие выводы.
Литература


При этом, схемы преобразования относительного перемещения технологических объектов имеют две разновидности введение нескольких элементарных движений, например, вращательных для независимого вращения образца и анализаторов А и Л2 рис. В первом случае имеется возможность использовать унифицированные вводы вращательного или поступательного перемещения с простейшей схемой преобразования, например, двухкоординатного вращения подложкодержателя. Однако возникающая при этом необходимость размещения ряда устройств в вакуумной камере увеличивает ес объем и, следовательно, трудности достижения требуемой степени разрежения. Кроме того, увеличение количества уплотнительных элементов также снижает вакуумнотехнические характеристики системы. Эти недостатки во многом устранимы, но конструкция манипулятора усложняется. Так ряд модификаций манипуляторов фирмы Уапап и манипулятор ТИМ2 фирмы ШЬег, обеспечивающие вращение на 0 0 и микрометрические перемещения вдоль трех координатных осей, представляют собой комбинацию двух вводов, а манипулятор ТИМЗ фирмы ЮЬег и манипулятор электронорафа, обеспечивающие пять степеней подвижности комбинацию трех вводов движения. В конструкциях манипуляторов фирм Уог1ап и ЮЬег три независимых перемещения по осям X, У и 7. Вращения в плоскости и др. Модульная структура этих манипуляторов и наличие комплекта сменных носителей образцов удовлетворяет требованиям проведения многих современных технологических процессов. X и У мм, при центральном положении осей X и У
Рис.