Системы на основе несамостоятельных газовых разрядов низкого давления для генерации потоков ионов и плазмы

• Автор: Визирь, Алексей Вадимович
• Шифр специальности: 05.27.02
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 2011
• Место защиты: Томск
• Количество страниц: 322 с. : ил.

ВВЕДЕНИЕ

ГЛАВА I. РАЗРЯДЫ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ

ИОННЫХ ПУЧКОВ И ПЛАЗМЕННЫХ ПОТОКОВ

Диапазон рабочих параметров ионноплазменных устройств

Принципы функционирования газоразрядных систем низкого давления

Плазменные источники заряженных частиц на основе самостоятельных газовых

разрядов низкого давления

1 лазменнье источники заряженных частиц на основе несамостоятельных

разрядов

Источники ионов низкой энергии с электростатическим

ускорением пучка

Торцевые холловские ускорители и ускорители с замкнутым дрейфом электронов и
протяженной зоной ускорения
Источники ионов полупроводниковых веществ
Выводы и постановка задач исследований
ГЛАВА II. ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ
И ИОННЫХ ПОТОКОВ
Двухступенчатая разрядная система с инжекцией электронов из плазмы
вспомогательного тлеющего разряда с полым катодом
Разрядные системы на основе несамостоятельного разряда с инжекцией электронов
из плазмы дугового разряда
2.2.1 Эмиттер электронов на основе дугового контрагированного
разряда с двухкомпонентным катодом
Генерация объемной газоразрядной плазмы на основе инжекции электронов из
дугового разряда с катодным пятном
Двухступенчатые разрядные системы для генерации объемной газоразрядной плазмы
на основе инжекции электронов из самокалящегося термоэмиттера
Особенности применения различных методик диагностики газоразрядной плазмы и
ионных потоков
Зондовая методика диагностики параметров газоразрядной плазмы
Измерения массзарядового состава плазмы
и энергетического спектра ионов
Оборудование для генерации плазмы и пучков ионов бора
на основе магнетронного разряда
Выводы 8 ГЛАВА III. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ГЕНЕРАЦИИ ОБЪЕМНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ
ПЛАЗМЫ И ИОННЫХ ПУЧКОВ НА ОСНОВЕ РАЗРЯДНЫХ СИСТЕМ С ИНЖЕКЦИЕЙ ЭЛЕКТРОНОВ 0
Оптимальная энергия инжектируемых электронов
Параметры газоразрядных систем с инжекцией электронов
из вспомогательного тлеющего разряда с полым катодом
Параметры газоразрядных систем для генерации объемной плазмы с инжекцией
электронов из дугового разряда с
холодным катодом
Эмиттерный разряд
Основной разряд
Пространственное распределение концентрации плазмы
Особенности электростатического ускорения ионных
пучков при пониженном давлении и при низкой энергии ионов
Влияние тока из пучковой плазмы на ток в цепи коллектора
ионного пучка
Использование одноэлектродных электростатических
ускоряющих систем с перфорированным электродом для генерации
ионных пучков низкой энергии
Выводы
ГЛАВА IV. ГЕНЕРАЦИЯ НАПРАВЛЕННЫХ ПОТОКОВ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧНЫХ ИОНОВ В РАЗРЯДНОЙ
СИСТЕМЕ С ИНЖЕКЦИЕЙ ЭЛЕКТРОНОВ 9
Влияние внешнего аксиальносимметричного магнитного поля
на процессы генерации плазмы
Влияние конфигурации и величины магнитного поля
на ионный ток коллектора
Особенности генерации плазмы в системе с одним соленоидом
Выводы 6 ГЛАВА V. ГЕНЕРАЦИЯ ОБЪЕМНОЙ ПЛАЗМЫ И ПУЧКОВ
ИОНОВ НА ОСНОВЕ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА С
МИШЕНЬЮ ИЗ БОРА В РЕЖИМЕ САМОРАСПЫЛЕНИЯ
Параметры вспомогательною разряда
Параметры сильноточного импульсного разряда
Массзарядовый состав плазмы и ионного пучка
Выводы 1 ГЛАВА VI. УСТРОЙСТВА ПА ОСНОВЕ
НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНЫХ РАЗРЯДОВ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ
Ионные источники на основе тлеющего разряда с полым катодом
и внешней инжекцией электронов
Малогабаритный источник пучков ионов газов и объемной плазмы
Генераторы объемной газоразрядной плазмы с эмиттером
на основе дугового контрагированного разряда с полым катодом
Генератор объемной газоразрядной плазмы 1
Генератор объемной газоразрядной плазмы 2
Источники интенсивных низкоэнергстических
направленных потоков ионов газа
Источник интенсивных низкоэнергетических
направленных потоков ионов газа иЬЕНИБ
Источник интенсивных низкоэнергетических
направленных потоков ионов газа 1ЛН
Источник интенсивных низкоэнергетических
направленных потоков ионов газа иЬЕННБЗ
Некоторые применения ионных источников и генераторов плазмы
Предварительная активация и очистка поверхности перед нанесением покрытий с
целью улучшения их адгезии 4
Нагрев ионной бомбардировкой с одновременной очисткой изделий перед нанесением
покрытий 7
Нанесение твердых алмазоподобных покрытий
Синтез сверхчистых оксидных и нитридных пленок 0
Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА


ГЛАВА I. ГЛАВА II. Выводы 8 ГЛАВА III. ГЛАВА IV. Выводы 6 ГЛАВА V. Выводы 1 ГЛАВА VI. Основой для этих устройств служат несамостоятельные разряды двух типов. ВЫ, В4С, В1. Диссертационная работа состоит из введения, шести глав и заключения. Вторая глава посвящена технике и методикам эксперимента. Рассмотрены основные физические принципы генерации такой плазмы. В энергией и энергетическим спектром шириной эВ. ГЛАВА I. Рис. К, масса атома, кг, давление, Па. Рассчитанная согласно 1. Рис. В 6, . Рис. М, для аргона х 8. Для плотности тока ионов 4 мАсм2 и энергии ионов эВ, как следует из 1. Жариновым и Поповым , . В, г расстояние транспортировки ионного пучка, м. Те. Асм2
Рис. Звездочкой
обозначена точка для плотности ионного тока мЛсм и энергии ионов
эВ. Рис. Плотность тока ускоренных ионов аргона мАсм2. При этом ток ионов из пучковой плазмы на коллектор будет тоже увеличиваться. Данный тип устройств будет рассмотрен в разделе 1. Пеннинга , и магнетрон . Г лежит в диапазоне 0, 0,1 . Согласно 1. ВЧ и СВЧразрядов различного типа. В и менее направленных ионных потоков. Москалва Б. И. . Метелем .