Источники низкоэнергетических сильноточных электронных пучков на основе пушек с плазменным анодом и взрывоэмиссионным катодом

• Автор: Озур, Григорий Евгеньевич
• Шифр специальности: 05.27.02
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 2008
• Место защиты: Томск
• Количество страниц: 287 с. : ил.

Общая характеристика диссертационной работы

Актуальность темы исследований

Цели диссертационной работы

Научная новизна работы

Практическая значимость

Апробация работы и публикации

Структура и краткое содержание диссертации

Положения, выносимые на защиту

ГЛАВА 1. ИСТОЧНИКИ ИМПУЛЬСНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ ДЛЯ ПОВЕРХНОСТНОЙ

ТЕРМООБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ

обзор литературы

1Л. Источники на основе вакуумных диодов с взрывной эмиссией электронов
Взрывная электронная эмиссия и методы создания катодов на ее основе
Источники низкоэнергетических СЭП со взрывоэмиссионным катодом
1.2. Источники интенсивных электронных пучков
с плазменным катодом
1.3. Источники сильноточных электронных пучков ,
с плазменным анодом и взрывоэмиссионным катодом
ВЫВОДЫ И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧ
ГЛАВА 2. ФОРМИРОВАНИЕ ПЛАЗМЕННОГО АНОДА
2.1. Формирование плазменного анода с помощью точечных источников
плазмы
2.2. Формирование плазменного анода с номощыо объемной ионизации рабочего
газа
Формирование иазменного анода с помощью термокатодной пушки
Формирование плазменного анода с помощью сильноточного отраэсательного
разряда
Времена запаздывания перехода отраэсательного разряда
в сильноточную стадию
Распределение токов по электродам ячейки отраэсательного разряда
в сильноточной стадии
Распределение концентрации плазмы по сечению столба отраэсательного
разряда
О механизме переноса тока в сильноточном отражательном разряде
ГЛАВА 3. ВОЗБУЖДЕНИЕ ВЗРЫВНОЙ ЭМИССИИ
В ПЛАЗМОНАПОЛНЕННОМ ДИОДЕ
3.1. Динамика электрического ноля на катоде
в условиях нестационарности слоя объемного заряда ионов
3.2. Методы улучшения эмиссионных свойств катода
3.3. Некоторые особенности работы взрывоэмиссионных катодов
большой площади в безмасляном вакууме
Методика экспериментов
Результаты экспериментов и их обсуждение
Выводы по Главе 3
ГЛАВА 4. ФОРМИРОВАНИЕ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКИХ СИЛЬНОТОЧНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ
В ПЛАЗМОНАПОЛНЕННОМ ДИОДЕ
4.1. Некоторые свойства двойных слоев в плазме
4.2. Нестационарные процессы в двойном слое
и начальная стадия формирования пучка
4.3. Квазистационарная стадия протекания тока
в плазмонаполненном диоде
4.4. Ограничение длительности импульса
в пушке с плазменным анодом на основе отражательного разряда
Утечки электронного тока в радиальном направлении
Об энергиях электронов, движущихся поперек магнитного поля
Зависимость длительности импульса пучка от радиального зазора
Выводы по Главе 4
ГЛАВА 5. ТРАНСПОРТИРОВКА НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКИХ СИЛЬНОТОЧНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ
В ПЛАЗМЕННОМ КАНАЛЕ
5.1. О токе НСЭП в плазменном канале
Эксперименты в системе с плазменным анодом
на основе искровых источников
Эксперименты в системе с плазменным анодом
на основе сильноточного отраэюательного разряда
Транспортировка НСЭП в гладкой трубе дрейфа
Транспортировка НСЭП
в системе с резким увеличением диаметра трубы дрейфа
О причинах ограничения тока НСЭП при транспортировке в плазме
5.2. Об однородности НСЭП, транспортируемого в плазме
Микронеоднородности НСЭП, транспортируемого в плазменном канале
О макрооднородности НСЭП, транспортируемого в плазменном канале
5.3. Релаксация кинетической энергии НСЭП в плазме
ГЛАВА 6. ИСТОЧНИКИ НСЭП НА ОСНОВЕ ПУШЕК С ПЛАЗМЕННЫМ АНОДОМ И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ
ПОВЕРХНОСТНОЙ
МОДИФИКАЦИИ МАТЕРИАЛОВ
6.1. Источник НСЭП с плазменным анодом на основе искровых источников7
6.2. Источники НСЭП серии РИТМ с плазменным анодом
на основе сильноточного отражательного разряда
Источник НСЭПРИТММ 9, 0
Увеличение ресурса катода, эксплуатируемого в безмасляном вакууме
6.3. Применения источников НСЭП
Обработка полупроводниковых материалов
Упрочнение инструментальных и конструкционных материалов
Повышение коррозионной стойкости металлических материалов
Повышение электрической прочности вакуумной изоляции
Увеличение импульсной электрической прочности
вакуумных промеэкутков
Увеличение длительности и энергии СВЧ импульса релятивистской лампы обратной
волны ЛОВ 4
Формирование поверхностных сплавов
Сглаживание полировка металлических материалов.
Создание пилотной установки
Выводы по Главе 6
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ПРИЛОЖЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА


ГЛАВА 1. ГЛАВА 2. ГЛАВА 3. ГЛАВА 4. ГЛАВА 5. ГЛАВА 6. Сглаживание полировка металлических материалов. В . Обоснование данной величины плотности тока следующее. Джсм2, что даст в итоге
вышеуказанную плотность тока уе Асм . Иремашвили Д. В и током до кА ,. Институте сильноточной электроники ИСЭ СО РАН Баженовым Т. Ладыженским О. Б. и их коллегами ,. Луценко Е. И., Середой И. Д. и др. Результаты расчетов подтверждены экспериментально. НАН Украины г. ТАС 1Л1. Томск. Диссертация состоит из введения, шести глав, заключения, и приложения. России СССР и за рубежом. НСЭП. НСЭГТ. НСЭП в плазмонаполненном диоде. В шестой главе дано описание источников широкоапертуриых НСЭП. Некоторые предварительные замечания но изложению данной главы. У. У. Всм. Асм . Исключительно большое значение имеет выбор материала катода. Всм, а иногда и 0 кВсм , , , . А и длительностью не. При этом достигается несколько положительных эффектов. Рис. Катодный узел с емкостным делением напряжения . НСЭГ1 . Определенными ухищрениями можно улучшить однородность катодной плазмы. Рис. Принципиальная схема катодного узла с емкостным делением напряжения. Ек составляла около 0 кВсм. Э . В, и газовый разрядник. На рис. Италии . Эта установка описана более подробно. На рис. Рис. Характерный энергетический спектр электронов пучка в установке . Нет таких данных и в последующей работе этих авторов . Электронная пушка помещалась во внешнее ведущее магнитное поле. Рис. Блоксхема установки .