Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ti
- Автор:
Смирнов, Владимир Александрович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2008
- Место защиты:
Таганрог
- Количество страниц:
148 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Минимум энтропии измерений как вычислимая мера запутанности многочастичных квантовых состояний | Чернявский, Андрей Юрьевич | 2010 |
| Особенности проектирования полностью цифровых систем ФАПЧ для процессорных устройств | Зиновьев, Денис Владимирович | 2005 |
| Разработка и исследование быстродействующих наноструктур СБИС с управляемой передислокацией максимума амплитуды волновых функций носителей заряда | Рындин, Евгений Адальбертович | 2007 |