Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ti
- Автор:
Смирнов, Владимир Александрович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2008
- Место защиты:
Таганрог
- Количество страниц:
148 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Влияние примесей на кинетику и механизмы окисления поликристаллических слоев селенида свинца при формировании фоточувствительных структур | Голубченко, Надежда Владимировна | 2004 |
| Нанометровые высоковольтные предохранители для экспериментальной физики | Воронов, Андрей Юрьевич | 2011 |
| Моделирование процессов в теплофизических микросенсорах | Козлов, Александр Геннадьевич | 2015 |