Разработка и исследование технологических основ процесса фотонностимулированного локального анодного окисления наноструктур на основе Si/SiO2/Ti
- Автор:
Смирнов, Владимир Александрович
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2008
- Место защиты:
Таганрог
- Количество страниц:
148 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Моделирование влияния температурных режимов технологического процесса изготовления интегральных микросхем на их радиационную стойкость | Гришаков, Владимир Владимирович | 2003 |
| Магнитоэлектрический эффект в композиционных феррит-пьезоэлектрических материалах в области магнитного резонанса | Антоненков, Олег Владимирович | 2006 |
| Повышение импульсно-частотных, тепловых и инжекционных характеристик биполярных кремниевых структур методом радиационно-термической обработки | Лагов, Петр Борисович | 2017 |