Формирование фотографических характеристик фотослоев на основе микрокристаллов галогенидов серебра гетероконтактного типа

• Автор: Кожухова, Татьяна Юрьевна
• Шифр специальности: 02.00.04
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2003
• Место защиты: Кемерово
• Количество страниц: 150 с.

ОГЛАВЛЕНИЕ

СПИСОК УСЛОВНЫХ СОКРАЩЕНИЙ.

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1 .ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР

1.1.СИНТЕЗ МИКРОКРИСТАЛЛОВ ГЕТЕРОКОНТАКТНОГО ТИПА

1.1.1 .Структура кристаллов

1.1.2.Структура и свойства плоских микрокристаллов.

1.1.2.1. Механизмы образования и роста плоских микрокристаллов

1.1.2.2. Диффузионный механизм.

1.1.2.3. Коалесцентный механизм

1.1.2.4. Влияние различных факторов на кинетику роста плоских микрокристаллов.

1.1.3. Микрокристаллы сложной структуры
1.1.3.1. Микрокристаллы эпитаксиального типа.
1.1.3.2. Микрокристаллы типа ядро оболочка.
1.2. ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТНЫХ СИСТЕМ.
1.2.1. Типы химической сенсибилизации
1.2.2.Химическая сенсибилизация МК типа ядрооболочка
1Хнмичсская сенсибилизация эпитаксиальных систем.
1.3.СПЕКТРАЛЬНАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТНЫХ СИСТЕМ
1.3.1.Механизмы спектральной сенсибилизации
1.3.2.Дссенсибилизация галогенндов серебра красителями.
1Сенсибилизация красителями ПМК с эпитаксами и типа ядро
оболочка
ГЛАВА 2.МЕТОДЫ И МЕТОДИКИ ЭКСПЕРИМЕНТОВ
2.1 .СИНТЕЗ ФОТОГРАФИЧЕСКИХ ЭМУЛЬСИЙ.
2.1.1.Синтез фотографических эмульсий методом контролируемой двухструйной кристаллизации
2.1.2.Турбидиметрический метод определения размера МЗЭ
2.1.3.Синтез ПМК методом физического созревания
2.1.4.Ту рбид и метрическое определение зависимости оптической
плотности от времени созревания.
2.1.5.Расчет констант скорости роста плоских микрокристаллов
2.1.6.Дисперсионный и гранулометрический анализ.
2.2.СИНТЕЗ ПЛОСКИХ МИКРОКРИСТАЛЛОВ ГЕТЕРОКОНТАКТ
НОГО ТИПА.
2.2.1.Плоские микрокристаллы с эпитаксами.
2.2.2.ПМК АВг с латеральной оболочкой АеВг0,1о,о4.
2.3.ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ.
2.4.СПЕКТРАЛЫТАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ.
2.5. СЕНСИТ ОМЕТРИЧЕСКИЕ ИСПЫТАНИЯ
2.6.ИСПОЛБЗУЕМЫЕ РЕАКТИВЫ.
ГЛАВА 3.ПОЛ УЧЕНИЕ ОДНОРОДНЫХ ПЛОСКИХ МИКРОКРИСТАЛЛОВ В ПРИСУТСТВИИ ДИМЕТИЛСУЛЬФОНА
3.1.Постановка задачи.
3.2.Влиянис диметилсульфона, введенного при ФС
3.3.Исследование роста ПМК из мелкозернистой эмульсии с различ
ным содержанием диметилсульфона.
3.4.Химическая сенсибилизация исследуемых систем
ГЛАВА 4.ХИМИЧЕСКАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТ
НЫХ СИСТЕМ
4.1.Влияние различных факторов на процесс химической сенсибилизации ПМК АйВг с эпитаксами АйС
4.1.1.Постановка задачи.
4.1.2.Объекты исследования
4.1.3.Химическая сенсибилизация эпитаксиальных систем.
4.1.4.Влияние температуры на фотографические характеристики эпитаксиальных систем.
4.1.5.Влияние различных концентраций химических сенсибилизаторов.
4.2.Влияние желатины и тиоцианата калия на фотографические характеристики ПМК с латеральной оболочкой, полученных при одновременном синтезе оболочки и химической сенсибилизации
Ф 4.2.1.Постановка задачи.
4.2.2.0бъекты исследования
4.2.3.Влияние различных концентраций желатины и КБСЫ на фотографические характеристики ПМК с латеральной оболочкой .6.
ГЛАВА 5.СПЕКТРАЛЬНАЯ СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ГЕТЕРОКОНТАКТНЫХ СИСТЕМ.
5.1.Спектральная сенсибилизация ПМК ,,4.
5.1.1 .Проведение спектральной сенсибилизации после химической
5.1.2.Провсдение спектральной сенсибилизации перед химической
5.1.3.Спектры отражения адсорбированных красителей.
5.1.4.Изучение спектральной чувствительности фотослоев.
5.2.Спектральпая сенсибилизация эпитаксиальных систем
5.2.1 .Сенсибилизация красителями плоских микрокристаллов с угловыми эпитаксами .
5.2.2.Спектры отражения адсорбированных красителей.
5.2.3.Изучение спектральной чувствительности фотослоев.
ВЫВОДЫ.
СПИСОк ЛИТЕРАТУРЫ


Композиционные кристаллы это кристаллы, имеющие смешанный галогенидный состав. По структуре можно выделить кристаллы с оболочками и с эпитаксами. Создание новых, конкурентноспособных фотоматериалов, стало возможным благодаря применению плоских микрокристаллов. В научнотехнической и патентной литературе имеется большой объм публикаций, посвящнный способам получения и свойствам эмульсий, содержащих ПМК . Первые публикации о плоских или таблитчатых микрокристаллых относятся к г. Тривелли и Смит 3 впервые привели сведения об эмульсиях, содержащих полидисперсные таблитчатые МК галогенидов серебра. Начиная с этого времени научный и практический интерес к ПМК постоянно возрастает. ПМК, вследствие хорошо развитой поверхности, свойственны ускоренные процессы проявления и фиксирования. Главной особенностью ПМК, определяющей большинство их физикохимических свойств, является наличие в них нескольких параллельных друг другу и большим граням плоскостей двойникования 5. Следует отметить, что в настоящее время ПМК принято называть кристаллы, у которых отношение среднего эквивалентного диаметра к средней толщине составляет не менее 8, а кристаллографическая однородность Бт отношение суммы площадей проекций ПМК к сумме площадей проекций всех кристаллов превышает . Одним из важнейших элементов ПМК является плоскость двойникования, которая впервые была обнаружена методом рентгеноструктурного анализа 5, причм было зафиксировано наличие нескольких параллельных друг другу плоскостей. Плоскость двойникования является зеркальной дефектной плоскостью, характеризующейся нарушением последовательности упаковки слоев 6. В ПМК возможно наличие 1, 2 или 3 плоскостей двойникования 7. Плоскость двойникования может иметь индексы Миллера исключительно 1 8. На рис. Рис. Изометрическая проекция плоского кристалла а и его сечение б. Плоскость двойникования является важным макродефектом ПМК, определяющим некоторые особенности образования в них скрытого изображения. Как и многие макродефекты, плоскости двойникования стабилизируют точечные дефекты. В случае ЛНа1 этими дефектами являются межузельные ионы серебра 9. Была изучена топография серебра в сильно фотолизированных ПМК. Гамильтон и Бреди установили, что вс фотолизированное внутри кристалла серебро расположено в плоскости параллельной большим граням кристалла и лежащей приблизительно на равном расстоянии от них. Были обнаружены одна или две такие плоскости. Предполагалось, что плоскости двойникования, положение которых совпадает с плоскостями отложения фотолизированного серебра, являются предпочтительным дефектом его образования. Учитывая механизм образования скрытого изображения, авторы предположили, что на плоскостях двойникования стабилизируются мсжузельные ионы серебра, что в дальнейшем и было доказано экспериментально . Другой чертой ПМК является наличие у них большой грани 1 и характерная форма. ПМК представляет собой анизотропно выросший в одной плоскости плоскости двойникования кристалл и его две большие грани имеют теже индексы Миллера, что и плоскость двойникования 1. По отношению к боковым граням первоначально считалось, что они тоже октаэдрические 8, . В дальнейшем были обнаружены индексы Миллера 1 6, а недавно было доказано наличие в ПМК кубических боковых граней , . Образующиеся при кристаллизации ПМК чаще всего имеют форму треугольников, правильных или неправильных шестиугольников и содержат две или три плоскости двойникования, параллельных большим граням. Может также встречаться некоторое количество трапецивидных МК с одной плоскостью двойникования . Большая часть ПМК имеет четное количество плоскостей двойникования. Г1МК могут быть получены методом КДК или методом ФС. При использовании первого метода трудно добиться получения эмульсий с однородными по форме и по размеру ПМК. Однородность может быть значительно повышена при применении метода ФС, когда исходная МДЭ выдерживается в течение времени при определнных условиях рВг, Т . Способ получения ПМК оказывает влияние на их свойства и, следовательно, на конечные характеристики фотоэмульсий.