Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением
- Автор:
Спешилова, Анастасия Борисовна
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2019
- Место защиты:
Санкт-Петербург
- Количество страниц:
131
Стоимость:
700 р.499 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Получение твердых растворов GalnAsP на подложках пористого фосфида индия | Шишков, Максим Викторович | 2004 |
| Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев GaN,InxGa1-xN и AlxGa1-xN методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений для светоизлучающих структур | Ермошин, Иван Геннадьевич | 2009 |
| Выращивание и некоторые свойства кристаллов розового фосфорсодежащего кварца | Емельченко, Александр Геннадьевич | 2001 |