Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением
- Автор:
Спешилова, Анастасия Борисовна
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2019
- Место защиты:
Санкт-Петербург
- Количество страниц:
131
Стоимость:
700 р.499 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Технология элементной базы защитных устройств для радиолокаторов сверхвысоких частот | Соловьев, Юрий Владимирович | 2005 |
| Разработка технологии массового производства радиационно стойких монокристаллических сцинтилляторов вольфрамата свинца | Анненков, Александр Николаевич | 2005 |
| Физические основы и принципы бесконтактного измерения параметров полупроводниковых материалов | Сидорин, Виктор Викторович | 1997 |