Технология получения резистивных структур на низкоразмерном уровне
- Автор:
Аношкин, Юрий Владимирович
- Шифр специальности:
05.11.14
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2009
- Место защиты:
Пенза
- Количество страниц:
219 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Технология интегральных микросхем истокового повторителя для преобразователей информации | Никитанов, Сергей Валерьевич | 2008 |
| Исследование влияния конструктивно-технологических параметров на надежность системы резистивных перемычек | Бурамбаева, Нурсауле Аманжоловна | 2005 |
| Исследование метода и разработка оборудования для диагностики работоспособности электролитов плазменно-электролитической обработки | Гребенюк, Никита Александрович | 2003 |