Получение особо чистых стекол системы TeO2-WO3 плазмохимическим парофазным осаждением

• Автор: Лобанов, Алексей Сергеевич
• Шифр специальности: 02.00.01
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2013
• Место защиты: Нижний Новгород
• Количество страниц: 135 с. : ил.

Оглавление
ВВЕДЕНИЕ
Глава 1. Строение, свойства и методы получения теллуритных стекол (Литературный обзор)

1.1 Стеклообразование в системах на основе Те

1.2 Спектры комбинационного рассеяния и структура вольфрам-теллуритных стекол

1.3 Свойства стекол системы Te02-W

1.3.1 Физико-химические свойства вольфрам-теллуритных стекол

1.3.2 Область прозрачности и ИК-спектры вольфрам-теллуритных стекол

1.4 Получение теллуритных стекол

1.5 Методы химического осаждения из газовой фазы (CVD - Chemical Vapor Deposition)

1.6 Предпосылки к получению вольфрам-теллуритных стекол парофазным химическим осаждением
1.7 Задачи исследования
Глава 2. Выбор летучих соединений для парофазного химического осаждения слоев Te02-W03 и определение условий проведения процесса
2.1 Требования к MCVD - процессу получения теллуритных стекол и заготовок на их основе
2.2 Выбор исходных компонентов и температурных условий процесса осаждения. Термодинамика реакций окисления летучих соединений теллура и вольфрама и германия
2.3 Выбор материала опорной трубки
2.4 Определение термостойкости стекол систем Te02-W03 и Te02-W03-La
2.5 Определение коэффициента поверхностного натяжения стекол систем Te02-W03 и Te02-W03-La203 сталагмометрическим методом
2.6 Определение температуры размягчения стекла состава
(Те02)о,78^0з)о,22 по Литтлтону
Глава 3. Получение слоев из смесей оксидов Те, ве термическим окислением летучих соединений(МСТ) метод)
3.1 Установка для парофазного осаждения слоев оксидов на внутреннюю поверхность опорной трубки
3.2 Методика эксперимента
3.3 Результаты эксперимента по осаждению слоев Те02-0е02 окислением ТеЬ) и ве
3.3.1 Элементный и фазовый состав слоев
Глава 4. Получение слоев из смеси оксидов Те, ве, ¥, Мо и Ві плазмохимическим окислением смеси соответствующих йодидов и хлоридов
4.1 Плазмохимическое окисление йодидов Теиве
4.1.1 Установка для проведения плазмохимического процесса
4.1.2 Методика эксперимента
4.1.3 Результаты эксперимента по осаждению слоев Те02-0е
4.2 Получение слоев из смеси оксидов Те, ¥, Мо и Ві плазмохимическим окислением смеси соответствующих хлоридов
4.2.1 Установка для проведения плазмохимического процесса и методика эксперимента
4.2.2 Плазмохимическое осаждение слоев Те02-¥
4.2.3 Состав осажденных слоев
4.2.4 Термическое поведение осажденных слоев Те02 - У
4.2.5 Получение компактного образца вольфрам-теллуритного стекла
4.2.6 Получение слоев Те02 - У03, легированных оксидами Ві и Мо
4.2.7 Вытяжка световода из преформы с осажденным слоем Те02-¥
Глава 5. Обсуждение результатов
5.1. Выбор исходных летучих соединений для СУБ - процесса получения теллуритных стекол

5.2 Возможности различных вариантов CVD процесса при получении слоев из смеси оксидов
5.3 Хлоридный вариант PMCVD - процесса
5.4 Особенности CVD способа изготовления преформ теллуритного световода
Выводы
Список литературы

■Зажим с отверстием для Ввода паров и газов Смecu тел о и устройство регулирования спорости потопов еазов и паров /
Спечепые
КшниШ тслоргіт- Щрозсванш слей Вращающийся водородная г open па со ти кварцевая
Гчзч--реаеемгпы
: *■пари I:'-,X
вращающийся зажим с
1 перегород' пой

Отверстие -*~дяя выво -_да газов
.Сяой осажденной сажи Перемещение горел пи
Винт перемещения каретки еорелки
Рис. 1-14. Схема получения заготовки методом внутреннего химического осаждения из газовой фазы [59]
Интерфейс
Механотрон
Опорная трубка Зона осаждения
, Печь Пирометр
Возбудитель разряда
г _ Плазменная колонна —*■“ К насосу
Магнетрон Фотодатчик
Азотная ловушка
Подвижка
Рис. 1-15. Схема установки осаждения методом БРСУО [61]