Релаксация неравновесного обеднения на поверхности кремния при сильных электрических полях

• Автор: Кириллова, Светлана Ильинична
• Шифр специальности: 01.04.10
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1984
• Место защиты: Киев
• Количество страниц: 169 c. : ил

ГЛАВА I. Эффект неравновесного обеднения (обзор литературы)

1.1. Сущность явления неравновесного обеднения

1.2. Релаксация неравновесного обеднения при умеренных электрических ПОЛЯХ

1.2*1. Большая плотность ПЗС

1.2.2. Малая плотность ПЗС

1.3. Термополевые процессы ускорения релаксации

при больших электрических полях

Выводы к главе I

ГЛАВА II. Релаксация неравновесного обеднения на

реальной и термически окисленной поверхности кремния

2.1. Введение

2.2. Методика исследований
2.3. Релаксация неравновесного обеднения на
реальной поверхности кремния р-типа
2.3.1. Релаксация в начальный момент неравновесного обеднения
2.3.2. Релаксация, обусловленная туннельно-активационными процессами
2.4. Релаксация неравновесного обеднения на
реальной поверхности кремния п-типа
2.5. Релаксация неравновесного обеднения на термически окисленной поверхности кремния
п-типа

2.6. Анализ релаксации неравновесного обеднения стр. при больших электрических полях на атомарно-чистой поверхности кремния
2.7. Выводы к главе II
ГЛАВА III. Релаксация неравновесного обеднения на легированной металлами поверхности кремния
3.1. Введение
3.2. Методика легирования поверхности кремния металлами
3.3. Релаксация неравновесного обеднения на поверхности кремния, легированной золотом
3.4. Релаксация неравновесного обеднения на легированной цинком поверхности кремния
3.4.1. Поверхность, легированная по способу Н
3.4.2. Поверхность, легированная по способу №2.. ПО
3.5. Выводы к главе III
Глава IV. Релаксация неравновесного обеднения на
кремниевых ВДП-структурах
4.1. Введение
4.2. Методика исследований
4.3. Технология изготовления исследуемых МДПструктур
4.4. Релаксация неравновесного обеднения на МДП-структурах, изготовленных с применением хлорной технологии
4.5. Релаксация неравновесного обеднения на МДП-структурах, полученных окислением в сухом кислороде

4.6. Релаксация неравновесного обеднения на стр. МДП-структурах, облученных ^-радиацией
4.7. Способ подавления релаксации емкости
кремниевых МДП-структур
4.7.1. Экспериментальные результаты
4.7.2. Природа процессов, приводящих к подавлению релаксации неравновесной емкости
4.8. Выводы к главе 1У
ОБЩИЕ ВЫВОДЫ
ЛИТЕРАТУРА

обычно используются в микроэлектронике. Это дало возможность проанализировать изменения, которые вносит окисление поверхности, при релаксации неравновесного обеднения.
2.2 Методика исследований.
Релаксация неравновесного обеднения исследовалась на кремнии р- типа с удельным сопротивлением при комнатной температуре 2300 Ом. см и на кремнии п- типа с рзсоц - 180' Ом,см. Кремниевые слитки разрезаются на пластины ориентированные в плоскости ( III). Пластины подвергались шлифовке и полировке алмазной пастой, диаметр которой изменялся от 7,5 мкм до 0,1 мкм. После полировки пластины разрезались на образцы прямоугольной формы, которые травились в полирующем травителе типа СР ( Л Л/ 02,' ИР •' С ООН = 7 : I : I ) с последующей промывкой в бидистиллате. Чтобы образцы с остатками травителя не оказались на воздухе при переходе к промывке, бидистиллат заливали в чашку с травителем, постепенно разбавляя его. Конечные размеры образцов после травления составляли: 1,6 х 0,5 х 0,08 см Омическим контактом к р- служил алюминий. Вжигание алюминия производили в комнатной атмосфере с помощью раскаленной платиновой проволоки. Омическим контактом к кремнию п-типа был сплав золота с 2% ( объемными) сурьмы. Фольга такого сплава вжигалась в образцы также на воздухе с помощью раскаленной платиновой проволоки,
К свободной поверхности образца с помощью металлического плоского электрода прижималась пластинка слюды толщиной 10мкм На поверхности слвды, находящейся в контакте с металлическим электродом, был полупрозрачный слой золота, который напылялся в вакууме 10”^ торр.Емкость собранного конденсатора измерялась