Разработка оптических методов создания концентрирующих рельефно-фазовых голограммных структур и исследование их характеристик

• Автор: Любимов, Александр Иванович
• Шифр специальности: 01.04.05
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2002
• Место защиты: Казань
• Количество страниц: 165 с. : ил

ОГЛАВЛЕНИЕ

ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. Периодические рельефно - фазовые структуры: дифракционные свойства, моделирование и оптические методы получения. (Обзор литературы.)
1.1.Дифракционные свойства периодических рельефно - фазовых структур
1.1.1 .Концентрирующие свойства дифракционных решеток с симметричной формой профиля штриха
1.1.2 .Концентрирующие свойства дифракционных решеток с асимметричной формой профиля штриха
1.1.3 .Сравнение концентрирующей способности голограммных дифракционных решеток с разными формами профиля штрихов
1.2.Методы моделирования процесса получения рельефно-фазовых структур
1.3.Способы получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток рельефно-фазового типа
1.3.1.Способ получения голограммных дифракционных решеток с симметричной формой профиля штриха
1.3.2.Способ получения голограммных концентрирующих дифракционных решеток в контрнаправленных пучках
1.3.3.Способ получения концентрирующих голограммных решеток с помощью Фурье-синтеза
1.3.4.Способ получения асимметричной формы профиля штриха с помощью многократного экспонирования
1.3.5.Сравнительная характеристика способов получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток
Выводы

ГЛАВА 2.Моделирование процесса формирования периодической рельефной структуры в фоточувствительном слое
2 Л .Математическое моделирование процесса формирования рельефно -фазовой структуры в слое фоточувствительного материала
2.1.1.Интерференционное поле в слое фоточувствительного материала, обладающего поглощением на поглощающей заготовке
2.1.2.Влияние изменения коэффициента поглощения в процессе экспонирования на интерференционное поле в слое фотоматериала
2.1.3.Образование формы профиля штриха при проявлении рельефнофазового фотоматериала
2.1.4.Влияние поглощения в фотослое на форму профиля штриха периодической рельефно-фазовой структуры
2.2.Физическое моделирование процесса получения периодической рельефно-фазовой структуры
2.2.1.Характеристики фоточувствительных сред для формирования рельефно-фазовых структур
2.2.2.Измерение фоточувствительных характеристик рельефно-фазовых фоточувствительных сред
2.2.3.Получение периодических рельефно-фазовых структур и сравнение результатов математического и физического моделирования
2.2.4.Методика уменьшения влияния стоячей волны на форму профиля
штриха голограммной дифракционной решетки
Выводы
ГЛАВА 3.Оптические способы формирования концентрирующих голограммных дифракционных решеток
3.1.Ахроматическая схема получения концентрирующих голограммных
решеток с симметричной формой профиля штриха
3.1.1 .Условия ахроматизации оптической схемы
3.1.2.Дифракционный интерферометр для получения голограммных ди-

фракционных решеток
3.2.Методика контроля частоты штрихов при получении рельефнофазовой решетки
3.3.Способ получения концентрирующих голограммных решеток на основе синтеза-Фурье
3.3.1.Формирование асимметричного распределения интенсивности по
периоду интерференционной картины
3.3.2.0птическая схема получения концентрирующих дифракционных решеток с помощью синтеза Фурье
3.4.Способ получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток в контрнаправленных пучках
3.5.Способ получения концентрирующих голограммных дифракционных решеток путем преобразования симметричной формы профиля штриха в
асимметричную
Выводы
ГЛАВА 4. Характеристики концентрирующих голограммных дифракционных решеток
4.1.Дифракционная эффективность голограммных дифракционных решеток
4.2 .Рассеянный свет голограммных дифракционных решеток
4.3.Волновой фронт голограммных дифракционных решеток
4.4.Сравнение характеристик дифракционных решеток, полученных разными методами
4.5.Влияние импульсного лазерного излучения на дифракционные свойства голограммных дифракционных решеток
Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА
ПРИЛОЖЕНИЕ

а,град
Рис.1.6. Зависимость углов голографирования [3 и а при X v — const