Моделирование и разработка широкоугольных электронно-оптических систем прецизионного электронно-лучевого оборудования

• Автор: Михальцов, Евгений Петрович
• Шифр специальности: 05.27.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1998
• Место защиты: Москва
• Количество страниц: 200 с.

СОДЕРЖАНИЕ

Введение
Глава 1. Анализ широкоугольных электронно-оптических систем
современного электронно-лучевого оборудования
1.1. Фотоэмиссионный электронный микроскоп для контроля процесса производства интегральных схем
1.2, Использование конфокальных электронно-оптических систем в установках электронной литографии
1.3. Анализ методов расчета электронно-оптических систем электронно-лучевого оборудования
1.4, Выводы. '
Глава 2. Разработка метода расчета широкоугольных
электронно-оптических систем
2.1. Вычисление осесимметричных полей на большом удалении от оси
2.2. Погрешность аппроксимации и определение оптимального порядка полинома
2.3. Особенности расчета траекторий широкоугольных электронно-оптических систем
2.4. Разработка методики восстановления формы электродов и полюсных наконечников по заданному осевому распределению потенциала
2.5. Программная реализация предложенного метода
2.6. Выводы

Глава 3. Вычислительный"эксперимент по моделированию широкоугольных электронно-оптических систем.
3.1. Цель и задачи вычислительного эксперимента.
3.2. Выбор модельных задач.
3.3. Исследование точности определения компонент ПОЛЯ вне оси симметрии электронно-оптических систем.
3.4. Исследование точности интегрирования уравнения движения.
3.5. Выводы.
Глава 4, Разработка широкоугольных электронно-оптических систем,
4.1. Разработка иммерсионного объектива фотоэмиссионного электронного микроскопа.
4.1.1. Постановка задачи.
4.1.2. Иммерсионный объектив с последовательным расположением .анода и магнитной линзы.
4.1.3. Практическая реализация иммерсионного магнитного объектива фотоэмиссионного электронного микроскопа,
4.1.4. Иммерсионный объектив с наложенными электрическим и магнитным полями.
4.1.5. Моделирование распределения интенсивности изображения в широкоугольных электроннооптических системах.
4,2. Разработка широкоугольных конфокальных электронно-оптических систем установок электронной литографии.

4.2.1. Генератор формы пучка установки электроннолучевой литографии
4.2.2. Система уменьшения изображения для установки проекционной электронной литографии
4.3. Выводы
Заключение
Литература
Приложение.
ронно-оптического элемента.
Теория аберраций ЭОО, основанная на теории возмущений, получила большое развитие и является хорошим инструментом при расчете оптических характеристик электронно-оптических элементов при достаточно узких пучках частиц, проходящих вблизи оси симметрии системы.
При рассмотрении узких пучков заряженных частиц, движущихся в окрестности оптической оси линзы, для определения компонент векторов Е и В распределение электростатического потенциала ср и скалярного магнитного потенциала <рт разлагают в ряд Буша по степеням г, где г - отстояние от оси. Для осесимметричных систем это выражение будет иметь вид [41]:
Ф(г,а)
(2к)
(а),
(1.8)

где Г, 2 - координаты точки для осесимметричной системы, Р(2) осевое распределение потенциала.
Векторный потенциал А представляется рядом

А(г,а)
(-1 У
к!(к+1)!

(2к)

(1.9';
где В(2) - осевое распределение магнитной индукции.
Далее из уравнения (1.6) можно получить приближенное уравнение, для чего в это уравнение подставляют разложение электри-