Плазмохимическое осаждение углеродных нано- и микроструктур для применения в электронике
- Автор:
Кривченко, Виктор Александрович
- Шифр специальности:
01.04.08
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2010
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
105 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Упорядоченные структуры в термической плазме с сильным взаимодействием макрочастиц | Чернышев, Александр Васильевич | 1998 |
| Перенос тепла в плазме токамака в переходных процессах при ЭЦР нагреве | Андреев, Валерий Филиппович | 2010 |
| Профили электронной температуры и особенности ЭЦР-нагрева высокотемпературной плазмы стелларатора Л-2М, полученные методом измерения электронно-циклотронного излучения | Гладков, Григорий Александрович | 2006 |