Плазмохимическое осаждение углеродных нано- и микроструктур для применения в электронике
- Автор:
Кривченко, Виктор Александрович
- Шифр специальности:
01.04.08
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2010
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
105 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Магнитогидродинамические модели плазмы: : Лагранжевы свойства и проблема устойчивости | Ильгисонис, Виктор Игоревич | 2004 |
| Захват и ре-эмиссия дейтерия, ионно-имплантированного в материалы первой стенки термоядерных установок | Цыплаков, Валерий Николаевич | 1984 |
| Моделирование аргон-силановой плазмы ВЧЕ разряда | Худайбергенов, Гамзат Жапарович | 2003 |