Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки
- Автор:
Гайнуллина, Наталья Романовна
- Шифр специальности:
05.12.21
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1998
- Место защиты:
Казань
- Количество страниц:
132 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Диссертационная работа «Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки», автор — Гайнуллина, Наталья Романовна, относится к типу: кандидатская диссертация по специальности 05.12.21. Работа подготовлена в городе Казань в 1998 году. Объем работы: 132 с. : ил.. Внутренний код товара: 01000187048. На странице представлены основные сведения о диссертации, включая название, автора, год, город, тип работы и шифр специальности.
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Металодиэлектрические структуры в антенных решетках, радиопоглощающих покрытиях и слабонаправленных излучателях | Сутягин, Игорь Владимирович | 2000 |
| Определение ориентации объектов по сигналам спутниковых радионавигационных систем | Алешечкин, Андрей Михайлович | 1999 |
| Антенны и экраны приемников системы спутниковой геодезии и навигации | Астахов, Андрей Витальевич | 2000 |