Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки
- Автор:
Гайнуллина, Наталья Романовна
- Шифр специальности:
05.12.21
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1998
- Место защиты:
Казань
- Количество страниц:
132 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Взаимодействие электромагнитных волн с поглощающими средами и специальные СВЧ-системы равномерного нагрева | Коломейцев, Вячеслав Александрович | 1999 |
| Система проектирования микрополосковых полосно-пропускающих фильтров | Никитина, Мария Ивановна | 1998 |
| Антенны и экраны приемников системы спутниковой геодезии и навигации | Астахов, Андрей Витальевич | 2000 |