Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки
- Автор:
Гайнуллина, Наталья Романовна
- Шифр специальности:
05.12.21
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1998
- Место защиты:
Казань
- Количество страниц:
132 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Повышение пространственной разрешающей способности радиометрических систем при недостаточной информации об аппаратной функции | Павлов, Алексей Сергеевич | 1999 |
| Разработка и применение метода частичных областей для расчета структур СВЧ и КВЧ диапазонов | Темнов, Владимир Матвеевич | 2000 |