Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки
- Автор:
Гайнуллина, Наталья Романовна
- Шифр специальности:
05.12.21
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1998
- Место защиты:
Казань
- Количество страниц:
132 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Диссертационная работа «Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки», автор — Гайнуллина, Наталья Романовна, относится к типу: кандидатская диссертация по специальности 05.12.21. Работа подготовлена в городе Казань в 1998 году. Объем работы: 132 с. : ил.. Внутренний код товара: 01000187048. На странице представлены основные сведения о диссертации, включая название, автора, год, город, тип работы и шифр специальности.
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Радиотехническая автономная адаптивная система приема-передачи сигналов через низкоорбитальные ИСЗ | Тархов, Николай Сергеевич | 2000 |
| Методы аналитического синтеза многозвенных диссипативных структур техники СВЧ | Покровская, Людмила Юрьевна | 2000 |
| Радиоволновые приборы СВЧ и КВЧ диапазонов для зондирования природных образований | Ёлкин, Владимир Александрович | 2000 |