Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки
- Автор:
Гайнуллина, Наталья Романовна
- Шифр специальности:
05.12.21
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1998
- Место защиты:
Казань
- Количество страниц:
132 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Антенны и экраны приемников системы спутниковой геодезии и навигации | Астахов, Андрей Витальевич | 2000 |
| Разработка методов стабилизации параметров усилителей СВЧ в условиях воздействия дестабилизирующих технологических факторов | Сафронов, Валерий Егорович | 2000 |
| Схемотехническое проектирование и моделирование СВЧ генератора с внутренней обратной связью на биполярном транзисторе | Фартушнов, Сергей Александрович | 1998 |