Математическое моделирование формирования фотолитографического изображения

• Автор: Домненко, Виталий Михайлович
• Шифр специальности: 05.11.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1999
• Место защиты: Санкт-Петербург
• Количество страниц: 132 с. : ил.

ОГЛАВЛЕНИЕ

ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА
Постановка задачи математического и компьютерного моделирования формирования фотолитографического изображения
1.1 Факторы, влияющие на формирование изображения в процессе фотолитографической проекции
1.2 Проблемы моделирования формирования фотолитографического изображения
1.3 Сравнительный анализ программных продуктов для
моделирования фотолитографического изображения
ВЫВОДЫ
ГЛАВА
Математические модели формирования фотолитографического
изображения
2 Л Математическая модель процесса фотолитографической проекции
2.2 Описание монохроматического поля в скалярном приближении
2.3 Моделирование формирования изображения при частичнокогерентном освещении на основе скалярной теории дифракции
2.4 Представление комплексной амплитуды монохроматического поля через суперпозицию плоских волн
2.5 Векторная модель формирования изображения при частично-когерентном освещении
выводы

ГЛАВА3
Численная реализация математических моделей формирования
фотолитографического изображения
ЗЛ Выбор узлов дискретизации функций при моделировании формирования изображения
3.2 Использование сдвигового дискретного преобразования Фурье и быстрый алгоритм его вычисления
3.3 Быстрый алгоритм вычисления функции волновой аберрации
3.4 Быстрый алгоритм моделирования формирования фотолитографического изображения
3.5 Пакет исследовательских программ для моделирования
фотолитографического изображения
ВЫВОДЫ
ГЛАВА
Анализ результатов компьютерного моделирования формирования фотолитографического изображения
4.1 Обзор результатов компьютерного моделирования формирования фотолитографического изображения
4.2 Исследование зависимости предельного размера элементов от расфокусировки
4.3 Сравнение результатов моделирования на основе скалярной и векторной теорий формирования
изображения
ВЫВОДЫ
ЗАКЛЮЧЕНИЕ

ЛИТЕРАТУРА
ПРИЛОЖЕНИЯ
1. Основные этапы фотолитографического производства интегральных микросхем
2. Система канонических координат
3. Построение и реализация алгоритма быстрого преобразования Фурье
4. Программная реализация быстрого алгоритма вычисления функции волновой аберрации
5. Программная реализация методики вычисления распределения интенсивности фотолитографического изображения

иЦх-у) на плоскости предмета, комплексную амплитуду поля их[гх,г за предметом, комплексные амплитуды поля С/2(р* >Р) на входном и из (р х, р у) на выходном зрачке изображающей оптической системы и комплексную амплитуду поля и4[г'х,г|) на поверхности изображения.
В итоге анализируют распределение интенсивности монохроматического поля /'(г|х,гф) на плоскости изображения в каждой точке (п*,г|), которое определяется следующим выражением:
Вычисление распределения интенсивности поля на плоскости изображения - главная задача моделирования формирования “воздушного” изображения.
2.3 Моделирование формирования изображения при частичнокогерентном освещении на основе скалярной теории дифракции
Как показано в разделе 1.2, для моделирования частично-когерентного освещения предметов и формирования изображения используется два подхода: подход Гопкинса и метод интегрирования по источнику.
Метод интегрирования по источнику или метод дискретизации источника более прост и более эффективен [11, 40, 76]. При использовании этого подхода источник моделируется как совокупность точек, каждая из которых создает полностью когерентное освещение предмета, а оптическая система - соответствующее ему изображение. Распределение интенсивности изображения вычисляется суммированием по интенсивности когерентных изображений, полученных от каждой точки источника.