Исследование особенностей получения и свойств пленок оксида цинка и железа

• Автор: Джумалиев, Александр Сергеевич
• Шифр специальности: 01.04.10
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2000
• Место защиты: Саратов
• Количество страниц: 151 с.

Оглавление
ВВЕДЕНИЕ
1. АНАЛИЗ УСЛОВИЙ СИНТЕЗА ПЛЕНОК
ОКСИДА ЦИНКА В СИСТЕМЕ ИОННО - ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ. СОЗДАНИЕ ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЙ УСТАНОВКИ
1.1. Методы ионно-плазменного осаждения и исследования пьезоактивных пленок (Обзор современного состояния проблемы)
1.1.1. Физические основы распыления материалов под действием ионной бомбардировки
1.1.2. Классификация систем ионно-плазменного распыления
1.1.3. Методы исследования пьезоактивных пленок
1.2. Разработка экспериментальной установки ионно - плазменного распыления
1.2.1. Метод оперативного контроля текстуры пьезоактивных пленок
1.2.2. Исследование условий получения пьезоактивных пленок оксида цинка
1.3. Выводы
2. СИНТЕЗ ПЛЕНОК ОКСИДА ЦИНКА С ПРЯМОЙ И НАКЛОННОЙ ТЕКСТУРОЙ В ПЛАНАРНОЙ МАГНЕТРОН-НОЙ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЙ СИСТЕМЕ
2.1. Условия формирования текстуры в тонких пленках
2.2. Постановка эксперимента. Управление областью отрицательного свечения

2.3. Обсуждение результатов
2.4. Исследование возможности роста многослойных структур на основе пленок оксида цинка
2.4.1. Экспериментальные результаты
2.5. Выводы
3. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ УСЛОВИЙ РОСТА НА СВОЙСТВА УЛЬТРАТОНКИХ ПЛЕНОК ЖЕЛЕЗА НА ПОДЛОЖКАХ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ (100)
3.1. Описание экспериментальной установки молекулярно-лучевой эпитаксии
3.2. Подготовка монокристаллических подложек арсенида галлия
• для молекулярно-лучевой эпитаксии
3.3. Контроль скорости осаждения пленок
3.4. Изучение магнитных свойств и параметров ультратонких пленок железа методом ферромагнитного резонанса
3.5. Некоторые закономерности эпитаксиального роста тонких пленок
3.6. Исследование влияния условий роста на магнитные свойства ультратонких пленок железа
3.6.1. Изучение влияния толщины пленок на их магнитные свойства. Экспериментальные результаты
3.6.2. Обсуждение результатов
3.7. Исследование влияние шероховатости подложек ваАг (100) на магнитные свойства ультратонких пленок Ие

3.7.1. Влияние особенностей роста на магнитные свойства ультратонких пленок железа. Экспериментальные результаты
3.7.2. Обсуждение результатов
3.8. Эффект переключения оси ’’легкого намагничивания” в пленках Ре/ваАв (001)
3.9. Выводы
ПРИЛОЖЕНИЕ
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

Распылительная камера установлена на базовой плите высоковакуумной установки с диффузионным паромасленным насосом Н-160 и азотной ловушкой. В непрогреваемом варианте с эластомерными уплотнителями во фланцевых соединениях остаточное давление в вакуумной системе достигает
6,6 10-4 Па. Небольшой объем распылительной камеры в сочетании с быстродействующим насосом позволяет производить замену конструктивных элементов с исследовательскими целями при минимальной потере рабочего времени.
Стеклянный колпак распылительной камеры облегчает визуальный контроль за процессами происходящими при ионно - плазменном распылении мишени.
В качестве распыляемой мишени использовался диск из химически чистого цинка. Такой выбор обусловлен доступностью химически чистого цинка по сравнению с мишенью из оксида цинка, простотой его механической обработки, хорошая теплопроводность облегчает его охлаждение в процессе распыления. В силу перечисленных достоинств мишень из цинка дешевле мишени из оксида цинка. Кроме того, процесс ионного распыления окислов более сложен, чем простых веществ и поэтому часто приводит к нарушению стехиометрии осаждаемой пленки. В разработанной нами установке, диск из химически чистого цинка диаметром 100 мм и толщиной в пределах от 4 до 6 мм навинчивался на медный цилиндр внутри которого располагалась охлаждаемая водой магнитная система. Для улучшения теплового контакта на плоскую поверхность между медным корпусом и цинковой мишенью наносилась 1п-Да эвтектика.
В качестве анода использовалось кольцо из алюминия диаметром 100 мм, расположенное на расстоянии 15 мм от поверхности мишени.
Кварцевый стакан ограничивал область горения плазмы и защищал мед-