Влияние фоторефрактивных процессов в элементах из DKDP на режим генерации твердотельных лазеров

• Автор: Куценко, Светлана Анатольевна
• Шифр специальности: 01.04.03
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1999
• Место защиты: Волгоград
• Количество страниц: 144 с. : ил.

СОДЕРЖАНИЕ

Список сокращений и обозначений
1. ВВЕДЕНИЕ
2. МЕТОДЫ УПРАВЛЕНИЯ ЛАЗЕРАМИ С ПОМОЩЬЮ ДИНАМИЧЕСКИХ РЕШЕТОК В ОПТИЧЕСКИХ СРЕДАХ (ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР)
2.1. Характеристики фоторефрактивного эффекта в ШЮР
при импульсном облучении
2.2. Методы создания и параметры динамических решеток
2.2Л. Механизмы возбуждения решеток в фоторефрактивных кристаллах
2.2.2. Основные параметры динамических фазовых решеток
2.2.3. Схемы записи динамических решеток в фоторефрактивных кристаллах
2.3. Использование динамических решеток для управления параметрами генерации лазеров
2.4 Постановка задачи
3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ФОТОРЕФРАКТИВНЫХ ПРОЦЕССОВ ВО ВНУТРИРЕЗОНА-ТОРНЫХ ЭЛЕМЕНТАХ ИЗ БКОР НА РЕЖИМ ГЕНЕРАЦИИ УАО:Ш3+-ЛАЗЕРА С ИМПУЛЬСНОЙ НАКАЧКОЙ
3.1. Методика исследования ВТФР при импульсном облучении
3.2. Описание экспериментальной установки
3.3. Исследование количественных характеристик ВТФР
3.4. Зависимости напряженности фоторефрактивного поля от поляризации возбуждающего излучения
3.5. Управление спектром импульсного лазера при инжекции непрерывного излучения
3.6. Возбуждение динамических решеток в ЭКЮР при
инжекции непрерывного излучения в резонатор импульсного лазера
3.1. Выводы
4. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ФОТОРЕФРАКТИВНЫХ ПРОЦЕССОВ ВО ВНУТРИРЕЗОНАТОРНЫХ ЭЛЕМЕНТАХ ИЗ ЭКЭР НА РЕЖИМ ГЕНЕРАЦИИ УАС:Ш3+- ЛАЗЕРА С НЕПРЕРЫВНОЙ НАКАЧКОЙ
4.1. Формирование фазовой решетки в ГОФР в условиях слабых лазерных полей
4.2. Методика измерений
4.3. Экспериментальная установка
4.4. Исследование влияния фоторефракции в ГОФР на пространственную структуру излучения
4.5. Исследование влияния фоторефракции в ГОФР на энергетический режим генерации
4.6. Исследование влияния фоторефракции в ВЬФР на
временные характеристики излучения
4.7. Исследование влияния фоторефракции в ГОФР на спектральные характеристики излучения
4.8. Обсуждение результатов
4.9. Выводы
5. ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ФОТОРЕФРАКЦИИ В ГОФР НА
УСЛОВИЯ ГЕНЕРАЦИИ ВТОРОЙ ГАРМОНИКИ
5.1. Исследование влияния фоторефрактивного эффекта в кристалле ГОФР на условия фазового синхронизма в рамках

феноменологической модели
5.2. Методика экспериментального исследования
5.3. Описание экспериментальной установки
5.4. Условия фазового синхронизма при генерации второй гармоники
в кристалле ШЮР
5.5. Влияние фоторефрактивного эффекта в кристалле ШЮР на условия фазового синхронизма
5.6. Обсуждение результатов
5.7. Выводы
6. ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА
БЛАГОДАРНОСТИ

вающего луча на решетку и величиной угла Брэгга ©в [59]. При равенстве этих углов для объёмной фазовой голограммы, работающей на прохождение [32]:
21 л-5П'й

X -сов®

(2-15)
А для случая двулучепреломляющего ФР кристалла:

• [б£] % <1
81П
ъ-ш-а

(2.16)
ил/2 - полуволновое напряжение кристалла
В случае объемной фазовой отражательной решетки, записываемой во встречных пучках [32]:

(2.17)
Д-ят ®в)
Как отмечено в [32] при увеличении толщины голограммы существенно меняются её свойства. Появляется селективность к длине волны и углу падения считывающего света (диапазон изменения длин волн и углов внутри которого возможно восстановление изображения с помощью голограммы). Для объёмной фазовой голограммы, записанной во встречных пучках, селективность по длине волны определяется величиной: [60]
Ак&-
2-Н-'8Ш0г
(2.18)
В свою очередь интервал углов падения плоского считывающего луча, допускающий восстановление изображения А© , равен [60]:

2-п-ё-%т®в <1

(2.19)