Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев кремния в системе SiH4-H2 на подложках цилиндрической формы
- Автор:
Гришко, Анна Сергеевна
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2005
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
136 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Диссертационная работа «Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев кремния в системе SiH4-H2 на подложках цилиндрической формы», автор — Гришко, Анна Сергеевна, относится к типу: кандидатская диссертация по специальности 05.27.06. Работа подготовлена в городе Москва в 2005 году. Объем работы: 136 с. : ил.. Внутренний код товара: 01002815821. На странице представлены основные сведения о диссертации, включая название, автора, год, город, тип работы и шифр специальности.
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Исследование и разработка технологий создания фотоэлектродов на основе наноструктурированного оксида титана | Дронов, Алексей Алексеевич | 2012 |
| Разработка конструкционных и технологических решений создания электронных устройств на поверхностных акустических волнах и встречно-штыревых преобразователях | Катаев, Владимир Федорович | 2013 |
| Разработка основ технологии получения нанокомпозита FeNi3/C на основе полиакрилонитрила, FeCl3×6H2O и NiCl2×6H2O под действием ИК нагрева | Костикова, Анна Владимировна | 2013 |