Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев кремния в системе SiH4-H2 на подложках цилиндрической формы
- Автор:
Гришко, Анна Сергеевна
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2005
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
136 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Диссертационная работа «Разработка основ технологии получения эпитаксиальных слоев кремния в системе SiH4-H2 на подложках цилиндрической формы», автор — Гришко, Анна Сергеевна, относится к типу: кандидатская диссертация по специальности 05.27.06. Работа подготовлена в городе Москва в 2005 году. Объем работы: 136 с. : ил.. Внутренний код товара: 01002815821. На странице представлены основные сведения о диссертации, включая название, автора, год, город, тип работы и шифр специальности.
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Гибридные люминесцентные материалы на основе органических электролюминофоров и стеклянных матриц | Анурова, Мария Олеговна | 2017 |
| Технология создания плоских микромодулей для приборов бесконтактной идентификации | Балабанов, Владимир Тарасович | 2008 |
| Кристаллы, стекла и расплавы галогенидных систем для активных сред лазеров среднего ИК диапазона | Моисеева, Людмила Викторовна | 2019 |