Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, AlxGa1-xAs и InxGa1-xAs на основе математической модели
- Автор:
Косарев, Артем Михайлович
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2004
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
131 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Технология тонкопленочных солнечных модулей большой площади на основе аморфного и микрокристаллического кремния | Семенов, Александр Вячеславович | 2015 |
| Физико-технологические основы пленочных термоэлектрических преобразователей измерительного назначения | Каримбеков, Мырзамамат Арзиевич | 2003 |
| Фотопроводимость и плотность состояний в a-Si: H и сплавах на его основе | Горбулин, Григорий Львович | 2001 |