Низкочастотный тлеющий разряд и механизмы роста в нем пленок a-Si: H и сплавов на его основе
- Автор:
Попов, Александр Афанасьевич
- Шифр специальности:
05.27.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
1999
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
197 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Основы технологии получения кремниевых структур с объемными элементами методом жидкофазной эпитаксии в поле температурного градиента | Середин, Лев Михайлович | 2000 |
| Механизмы переноса носителей заряда в солнечных батареях на основе a-Si:H и его сплавов И c-Si | Сизов, Алексей Владимирович | 2004 |
| Исследование процессов формирования и защиты поверхности планарных p-n переходов и модернизация базовой технологии изготовления фотодиодов на основе InSb | Талимов, Алексей Владимирович | 2001 |