Разработка технологических основ создания наноструктурированных пленок оксидов ванадия методом импульсного лазерного осаждения и приборов на их основе
- Автор:
Михайличенко, Александр Валерьевич
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2011
- Место защиты:
Таганрог
- Количество страниц:
176 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Разработка интегральной микросхемы частотного компаратора для блока управления экономайзером отечественных легковых автомобилей | Горячкин, Юрий Викторович | 2001 |
| Особенности образования наноостровков в многослойных SiGe гетероструктурах и метод селективного легирования SiGe структур сегрегирующими примесями | Юрасов, Дмитрий Владимирович | 2012 |
| Исследование хемосорбционного взаимодействия при формировании приповерхностных легированных слоев в полупроводниках и пленок на их поверхности в технологических процессах диффузии и осаждения | Королев, Алексей Николаевич | 1998 |