Создание методов и устройств автоматического контроля технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок в авиационном моторостроении и приборостроении

• Автор: Семенов, Эрнст Иванович
• Шифр специальности: 05.07.05, 05.13.05
• Научная степень: Докторская
• Год защиты: 1999
• Место защиты: Рыбинск
• Количество страниц: 298 с. : ил.

ВВЕДЕНИЕ. ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ И ТОНКИХ ПЛЕНОК. Краткая характеристика тонких пленок, применяемых в приборостроении и электронике. Технологический процесс электроннолучевого нанесения жаростойких и теплозащитных покрытий на лопатки ГТД. Общие сведения. Эллипсометрический метод. Комбинированные методы. Контроль уровня поверхности испарения. Слой1 . Выводы по второй главе. ПОКРЫТИЙ И ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЛЕНОК. Отражение прозрачной подложки с прозрачной пленкой 0
Обычно процесс испарения вещества рассматривают применительно испарению металла из жидкой фазы, что наиболее часто встречается при нанесении покрытий. Г абсолютная температура поверхности испарения. Для решения этого уравнения предположим, что молярный объем Ус конденсированной фазы пренебрежимо мал по сравнению с молярным объемом пара, пар подчиняется законам идеального газа, т. VI, где Я газовая постоянная. В константа. Каждый испаряемый материал характеризуется своими коэффициентами А и В, которые приводятся в литературе например, .


Эллипсометрический метод. Комбинированные методы. Контроль уровня поверхности испарения. Слой1 . Выводы по второй главе. ПОКРЫТИЙ И ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЛЕНОК. Отражение прозрачной подложки с прозрачной пленкой 0
Обычно процесс испарения вещества рассматривают применительно испарению металла из жидкой фазы, что наиболее часто встречается при нанесении покрытий. Г абсолютная температура поверхности испарения. Для решения этого уравнения предположим, что молярный объем Ус конденсированной фазы пренебрежимо мал по сравнению с молярным объемом пара, пар подчиняется законам идеального газа, т. VI, где Я газовая постоянная. В константа. Каждый испаряемый материал характеризуется своими коэффициентами А и В, которые приводятся в литературе например, . Больцмана. М масса грамммоля. Численные значения давлений и скоростей испарения по массе приведены в литературе например, , . При р,1, Па величина Уисп для большинства элементов обычно имеет порядок 4 г см2с. При нанесении защитных покрытий используют более высокие скорости испарения. При испарении 1 кгч 0, г с1 металлов и сплавов из медного водоохлаждаемого тигля диаметром мм удельная скорость испарения составляет 7, О3 гсмс1. При этом скороегь конденсации на подложке, удаленной на 0 0 мм от испарителя, составляет 0, 0, мкмс1 1. Приведенные выше данные справедливы, если давление остаточных газов рабочей камере не превышает 0,3 Па. При увеличении давления остаточных газов от 0,3 до 0 Па скорость испарения уменьшается на два порядка . Кс4,4 М Т2 гсм2с1,
1.