Рельефно-фазовые голограммы на фотоэмульсионных слоях, облученных ультрафиолетовым излучением

• Автор: Гуляев, Сергей Николаевич
• Шифр специальности: 01.04.04, 01.04.05
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2006
• Место защиты: Санкт-Петербург
• Количество страниц: 196 с. : ил.

1.1. Фотографические материалы и бихромированная желатина в голографии.

1.2. Голографические фазовые структуры, полученные метолом недубящего отбеливания.

1.3. Избирательное дубление желатины ключ к созданию фазовых структур в фотоэмульсионном слое.
1.4. Рельефнофазовые голографические структуры, полученные с помощью дубящего проявления и отбеливания.
1.5. Неравновесная обработка желатиновых слоев и БНБСметод создания объемных фазовых голограмм на фотоматериалах
1.6. Рельефнофазовые структуры, созданные на основе методов избирательной деструкции желатины.
1.7. Световое дубление желатины, как метод создания фазовых голографических структур на фотоэмульсионных слоях. Формулировка задач диссертационной работы
ГЛАВА И. ИССЛЕДОВАНИЕ ДИФРАКЦИОННЫХ СВОЙСТВ РЕЛЬЕФНОФАЗОВЫХ ГОЛОГРАММ, ПОЛУЧЕННЫХ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ КОРОТКОВОЛНОВОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ФОТОЭМУЛЬСИЮ.
2.1. Получение рельефнофазовых голограмм при засветке фотоэмульсионного слоя УФизлучением ртутнокварцевой лампы.

2.2. Исследование механизмов дифракции света на голографических структурах

2.3. Искажения голографического изображения

ГЛАВА III. МЕХАНИЗМ ОБРАЗОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТНОГО РЕЛЬЕФА ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СТРУКТУР, ПОЛУЧЕННЫХ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ КОРОТКОВОЛНОВОГО УФИЗЛУЧЕНИЯ НА ФОТОЭМУЛЬСИЮ.
3.1. Фотодеструкция желатины фотографического слоя, как основной фактор образования поверхностного рельефа.
3.2. Элементарные модели, описывающие процесс формирования поверхностного рельефа.
3.3. Влияние времени проявления на свойства рельефнофазовых голограмм
3.4. Влияние отбеливания на свойства рельефнофазовых голограмм.
ГЛАВА IV. ИССЛЕДОВАНИЕ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СТРУКТУР С БОЛЬШОЙ ГЛУБИНОЙ ПОВЕРХНОСТНОГО РЕЛЬЕФА, ПОЛУЧЕННЫХ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ КОРОТКОВОЛНОВОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ФОТОЭМУЛЬСИЮ
4.1. Предпосылки введения метода многоцикловой обработки фотоэмульсионного слоя.
4.2. Методика проведения экспериментов по многоцикловой обработке
4.3. Экспериментальное исследование метода многоцикловой обработки
4.4. Пространственночастотная характеристика голографических структур, полученных при многоцикловой обработке.
4.5. Модели, описывающие явление удвоения периода голографической структуры
4.6. Исследование метода многоцикловой обработки фотоэмульсионного слоя при использовании источников УФизлучения разного спектрального состава
4.7. Исследование метода обработки фотопластинок с использованием непрерывного травления фотоэмульсионного слоя
4.8. Явление удвоения периода голографических структур, записанных на фотографических слоях, и другие схожие физические феномены.
ГЛАВА V. НЕКОТОРЫЕ ПРАКТИЧЕСКИЕ ПРИМЕНЕНИЯ МЕТОДА ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНОФАЗОВЫХ СТРУКТУР ПУТЕМ ВОЗДЕЙСТВИЯ
КОРОТКОВОЛНОВОГО УФИЗЛУЧЕНИЯ НА ФОТОЭМУЛЬСИЮ.
5.1. Перенос голографической структуры на стеклянную подложку.
5.2. Создание голографических расщепителей лазерного пучка на основе рельефнофазовых голограмм, полученных с помощью обработки фотоэмульсий УФизлучснием.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
ПРИЛОЖЕНИЕ. Состав обрабатывающих растворов для голографического
процесса.
ЛИТЕРАТУРА


Поэтому, до определенных пределов повышение концентрации КВг приводит к увеличению амплитуды модуляции показателя преломления и дифракционной эффективности голографической структуры при одновременном росте шумов изза увеличения размеров микрокристаллов АВг по сравнению с исходным . Растет также и амплитудное поглощение в фотоэмульсионном слое . В целом, наиболее качественные голографические структуры получаются при обращающем отбеливании концентрация КВг в отбеливателе 9 равна нулю, что связано с тем, что неэкспонированные зерна г подвергаются при таком процессе наименьшему химическому воздействию, сохраняя исходный минимальный размер, заложенный производителем. Температура отбеливающих растворов. Для сравнительно прочных фотоэмульсий обычно используют повышенную температуру отбеливающих растворов около С для фотоматериалов v 8ЕНО и ВВ0 , , , в то время как менее прочные фотослои требуют для обработки комнатной температуры С фотоэмульсия ПФГ, . Побочные структуры. При проведении оптимизации отбеливающего процесса кроме обычного рассеяния и поглощения некоторыми авторами , , принимается во внимание существование шумовых и ложных решеток, создаваемых вследствие рассеяния записывающих пучков в толщине и френелевского отражения на поверхности фотопластинок. Усадка фотоэмульсионного слоя. Изменение толщины фотоэмульсионного слоя после обработки является вредным фактором для объемных ГОЭ поскольку ведет к изменеI лию геометрической конфигурации периодической структуры в объеме голограммы.