Влияние природы полимерной матрицы, фоточувствительного генератора кислоты и физических факторов на литографические свойства химически усиленных фоторезистов
- Автор:
Джонс, Михаил Михайлович
- Шифр специальности:
02.00.06
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2012
- Место защиты:
Нижний Новгород
- Количество страниц:
126 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Функциональные производные олигомерных и полимерных фосфазенов | Биличенко, Юлия Викторовна | 2008 |
| Радикальная полимеризация поверхностно-активных мономеров в водных эмульсиях и дисперсиях | Орлов, Юрий Николаевич | 1985 |
| Реологические и механические свойства полимеров, наполненных наноразмерными частицами алмазов детонационного синтеза | Карбушев, Валерий Валерьевич | 2010 |