Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+
- Автор:
Лапин, Дмитрий Геннадьевич
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2019
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
113
Стоимость:
700 р.499 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Разработка и исследование технологических основ формирования наноразмерных планарных структур на основе пленок BiFeO3 для устройств обработки и хранения информации | Алябьева, Наталья Ивановна | 2014 |
| Схемотехника СВЧ - систем на кристалле с использованием кремниевых гетероструктурных биполярных транзисторов | Тимошенков, Валерий Петрович | 2013 |
| Сегнетоэлектрики типа перовскит (BaxSr1-xTiO3) для СВЧ применений : электродинамические свойства и методики измерений | Котельников, Игорь Витальевич | 2017 |