Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+
- Автор:
Лапин, Дмитрий Геннадьевич
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2019
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
113
Стоимость:
700 р.499 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Экспериментальное моделирование дозовых ионизационных эффектов в аналоговых изделиях биполярной, БиКМОП- и КМОП-технологии в условиях длительного низкоинтенсивного облучения | Петров, Александр Сергеевич | 2018 |
| Исследование тонкопленочных нанокомпозитов сегнетоэлектрик-полупроводник для оптоэлектронных применений | Федоров, Константин Александрович | 2013 |
| Усилительный каскад на мощном многокристальном широкополосном LDMOS транзисторе S-диапазона частот | Романовский, Станислав Михайлович | 2018 |