Технологические аспекты локальной обработки материалов микро- и наноэлектроники сфокусированным пучком ионов Ga+ и Xe+
- Автор:
Лапин, Дмитрий Геннадьевич
- Шифр специальности:
05.27.01
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2019
- Место защиты:
Москва
- Количество страниц:
113
Стоимость:
700 р.499 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Интегральная реализация принципа многофазного управления регулятором напряжения питания в КМОП технологическом базисе | Балашов, Алексей Михайлович | 2005 |
| Конструктивно-технологические решения изготовления наноразмерных автоэмиссионных катодов на основе пленок мультиграфена на карбиде кремния | Житяев, Игорь Леонидович | 2019 |
| Электрофизические свойства и природа локализованных состояний в гетеропереходах на основе a-Si: H и его сплавов | Бирюков, Андрей Валерьевич | 2000 |