Разработка и исследование метода осаждения оптических покрытий с заданным распределением толщины

• Автор: Большанин, Александр Фридрихович
• Шифр специальности: 05.11.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1984
• Место защиты: Ленинград
• Количество страниц: 145 c. : ил

ГЛАВА I. МЕТОДЫ НАНЕСЕНИЯ И КОНТРОЛЯ ОПТИЧЕСКИХ

ПОКРЫТИЙ

1.1. Способы формирования слоев осаждением

в вакууме

1.2. Методы вакуумной асферизации . .

1.3. Контроль толщины тонких пленок в процессе

осаждения

1.4. Контроль.формы оптических асферических . . . поверхностей

1.5. Выводы

ГЛАВА 2. РАСЧЕТ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ТОЛЩИНЫ СЛОЕВ,.

ПОЛУЧАЕМЫХ ИСПАРЕНИЕМ В.ВАКУУМЕ

2.1. Постановка задачи
2.2. Распределение толщины слоя на поверхности . . подложки, совершающей планетарное вращение
2.3. Распределение толщины слоя при использо- . . .
вании испарителя малых размеров
2.4. Расчет -распределения толщины слоя на подложках со сферической, формой поверхности.. Обсуждение . . результатов
2.5. Выбор параметров подложки и геометрии вакуумной установки .для создания поверхностей, с
заданной.асферичностью
2.6. Упрощенный расчет профиля слоя планоидных асферических элементов, изготовленных при одинарт- . . ном вращении подложки

2.7. Выводы
ГЛАВА 3. ОПТИМИЗАЦИЯ ФОРМЫ ПРИЕМНОЙ ПОВЕРХНОСТИ
ПРИ МАССОВОМ ИЗГОТОВЛЕНИИ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ СИСТЕМ
3.1. Связь между формой приемной поверхности и геометрией испарительной установки при осаждении равнотолщинных слоев
3.2. Определение оптимальной формы приемной поверхности при испарении из точечного и
плоского испарителя
3.3. Выводы
ГЛАВА 4. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ
ПОКРЫТИЙ ПЕРЕМЕННОЙ ТОЛЩИНЫ
4.1. Экспериментальная вакуумная установка
4.2. Особенности формирования диэлектрических . покрытий
4.3. Исследование металло-диэлектрических
асферизующих систем
4.4. Антиотражательные фильтры с
бесконечной контрастностью
4.5. Выводы.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ЛИТЕРАТУРА
ПРИЛОЖЕНИЕ

Диссертационная работа относится к области оптики тонкослойных покрытий и посвящена разработке и исследованию методов формирования покрытий с заданным распределением толщины слоя по поверхности подложки.
Расширение фронта исследований в области тонких пленок связано в первую очередь с их успешным применением при решении многих технических задач. Среди сравнительно новых областей применения тонкослойных покрытий можно назвать микроэлектронику, где на основе тонких пленок изготавливаются активные и пассивные элементы электрических цепей, вычислительную технику с тонкопленочными магнитными и проводящими элементами, авиацию и космонавтику, где используются специальные покрытия, регулирующие температуру корабля в полете, интегральную оптику.
Одной из традиционных областей применения тонкопленочных покрытий является оптика. Так, исторически первым, нашедшим широкое применение свойством тонких пленок, было обнаруженное Тейлором и объясненное в 30-е годы Бауэром и Стронгом, явление просветления тонкой пленкой оптических поверхностей. В последующие годы на основе тонкопленочных покрытий были разработаны многочисленные оптические элементы, обладающие различными полезными свойствами. К числу таких элементов относятся зеркала, свето- и спектроделители, поляризаторы, узкополосные интерференционные фильтры, работающие в отражении и пропускании. Создание зеркал с высоким коэффициентом отражения в широкой области спектра позволило решать задачу поиска новых генерирующих переходов без перестройки лазерного резонатора.
К настоящему времени наибольшее распространение в оптической технологии получили тонкослойные системы на основе диэлектричес-

Рис. 2.2. Распределение толщины слоя на сферической подложке. & = 5 ; ^ - 0,3 ; ^ = 4,6.
Около кривых указаны значения
Рис. 2.3. Распределение толщины слоя на сферической подложке. А = 0,25; ^ = 0,3; ~ = 1,6.