Влияние СВЧ электромагнитного поля на физико-механические свойства эпоксидного компаунда

• Автор: Лаврентьев, Владимир Александрович
• Шифр специальности: 05.09.10
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2009
• Место защиты: Саратов
• Количество страниц: 174 с. : ил.

Содержание
Введение

1. Проблема модификации полимерных материалов

1.1. Эпоксидные полимерные материалы

1.2. Способй модификации свойств эпоксидных компаундов

1.3. Воздействие СВЧ электромагнитных колебаний на диэлектрики

1.3.1 Особенности воздействия СВЧ электромагнитного поля

1.3.2. Нетепловое СВЧ воздействие на полимеры

Выводы

2. Исследование влияния СВЧ электромагнитных колебаний

на процесс отверждения эпоксидного компаунда
2.1. Проверка гипотезы о влиянии СВЧ электромагнитных колебаний
на процесс отверждения эпоксидного компаунда
2.1.1. Методика исследования
2.1.2. Результаты исследований
2.2. Исследование влияния режимов СВЧ обработки эпоксидного компаунда в камере с бегущей волной
2.2.1. Конвейерная СВЧ установка для научных исследований
2.2.2. Выбор параметров управления процессом отверждения эпоксидного компаунда в СВЧ электромагнитном поле
2.2.3. Методика исследования
2.2.4. Построение эмпирической модели
2.2.5. Оптимизация процесса отверждения эпоксидного
компаунда в СВЧ электромагнитном поле
2.2.6. Анализ результатов исследований
Выводы
3. Влияние СВЧ электромагнитного поля на структуру
эпоксидного компаунда
3.1. Исследование влияния СВЧ электромагнитного поля на
структуру эпоксидного компаунда методом ИК-спектроскопии
3.2. Особенности формирования структуры эпоксидных
компаундов в процессе СВЧ отверждения
3.3. Фазовые переходы в полимерах при воздействии СВЧ электромагнитных колебаний
4. СВЧ электротехнологические установки
модифицирующего воздействия на эпоксидный компаунд
4.1. Структурная схема СВЧ установки модифицирующего воздействия
4.2. Рабочие камеры СВЧ установок для модификации эпоксидного компаунда
4.2.1. Камеры лучевого типа для модификации эпоксидного компаунда при изготовлении изделий с большими поверхностями
4.2.2. Камеры с бегущей волной для модификации эпоксидного компаунда
Выводы
5. Разработка технологических рекомендаций отверждения эпоксидного компаунда в СВЧ электромагнитном поле
5.1. Особенности изготовления силовых трансформаторов
с литой изоляцией обмоток
5.2. Технологические рекомендации по изготовлению силовых трансформаторов с литой изоляцией с применением СВЧ электромагнитного поля
Выводы
Заключение
Приложения
Литература
Список сокращений
ЭС - эпоксидная смола;
ЭК - эпоксидный компаунд;
ПЭПА - полиэтиленполиамин;
ПКМ - полимерный композиционный материал;
СВЧ ЭМП - сверхвысокочастотное поле электромагнитное поле;
СВЧ ЭМК - сверхвысокочастотные электромагнитные колебания;
СВЧ ЭТУ - сверхвысокочастотные электротермические установки;
СВЧ ЭМВ - сверхвысокочастотные электромагнитные волны;
СОЖ - смазывающая охлаждающая жидкость;
СС - смазочные среды;
ПФЭ - полный факторный эксперимент;
СВЧ УКВ - СВЧ установкой комбинированного воздействия;
У СВЧ ДН - установки сверхвысокочастотного диэлектрического нагре-
КЛТ - камеры лучевого типа;
КБВ - камера с бегущей волной;
КСВ - камера со стоячей волной.

Для выбора места размещения образца ЭК в СВЧ ЭМП исследовалось его распределение в КСВ. Распределение СВЧ ЭМП оценивалось косвенно (визуально) по степени сушки тонкого слоя теста, который размещался на тонком диэлектрическом поддоне с tgд ~ 0 на разной высоте в рабочей камере по всей его площади. В качестве балластной нагрузки использовалась вода ёмкостью 250 мл. Время СВЧ воздействия на тесто контролировалось по встроенным электронным часам СВЧ установки. Поверхность теста была разделена на квадраты, и после СВЧ нагрева по наличию сухих и влажных квадратов, строилась картина распределения СВЧ ЭМП (рис. 2.3).

Рис. 2.3. Распределение электромагнитного поля в КСВ при разной высоте расположения теста Ь и места размещения балластной нагрузки: а - Ь = 125мм, нагрузка в центре; б - Ь = 65мм, нагрузка посередине у задней стенки; в - Ь = 0, нагрузка посередине у задней стенки; г - Ь = 0, нагрузка посередине у боковой стенки; д - Ь = 0, нагрузка в центре
Установлено, что для равномерной обработки в КСВ ЭК должен располагаться в нижней её зоне, т.е. не выше 65 мм от дна рабочей камеры, с расположением балластной нагрузки посередине у задней или боковых стенок рабочей камеры.
Для выяснения особенностей отверждения ЭК при СВЧ воздействии он заливался в прямоугольную кювету размером 1,8x3,3><1,2 см, которая помеща-