Оптимизация технологических условий эпитаксиального роста толстых слоев нитрида галлия
- Автор:
Вороненков, Владислав Валерьевич
- Шифр специальности:
01.04.10
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2014
- Место защиты:
Санкт-Петербург
- Количество страниц:
174 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Особенности обменного взаимодействия и релаксации спина в разбавленных магнитных системах | Крайнов, Игорь Вадимович | 2018 |
| Туннельный транспорт носителей и связанные с ним физические явления в структурах золото - фторид кальция - кремний (III) | Илларионов, Юрий Юрьевич | 2015 |
| Теплопроводность халькогенидов свинца и твердых растворов на основе PbTe | Алексеева, Галина Тарасовна | 1984 |