+
Действующая цена700 499 руб.
Товаров:
На сумму:

Электронная библиотека диссертаций

Доставка любой диссертации в формате PDF и WORD за 499 руб. на e-mail - 20 мин. 800 000 наименований диссертаций и авторефератов. Все авторефераты диссертаций - БЕСПЛАТНО

Расширенный поиск

Исследования электронных процессов в полупроводниках с областями пространственногол заряда

Исследования электронных процессов в полупроводниках с областями пространственногол заряда
  • Автор:

    Овсюк, Виктор Николаевич

  • Шифр специальности:

    01.04.10

  • Научная степень:

    Докторская

  • Год защиты:

    1983

  • Место защиты:

    Новосибирск

  • Количество страниц:

    438 c. : ил

  • Стоимость:

    700 р.

    499 руб.

до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
"ГЛАВА I. ПРИПОВЕРХНОСТНАЯ ОБЛАСТЬ ПРОСТРАНСТВЕННОГО 
§ 2. Дифференциальные емкости приповерхностных ОПЗ

ГЛАВА I. ПРИПОВЕРХНОСТНАЯ ОБЛАСТЬ ПРОСТРАНСТВЕННОГО

ЗАРЯДА В ПОЛУПРОВОДНИКАХ

§ I. Исходные положения

§ 2. Дифференциальные емкости приповерхностных ОПЗ

§ 3. Квазиклассические приближения для монополярных

полупроводников


§ 4. Квантование энергетического спектра носителей заряда в приповерхностных слоях полупроводников
§ 5. Особенности квантования электронного спектра в инверсионных каналах на поверхности германия

§ 6. Холл-фактор и машетосопротивление инверсионных

п-каналов на германии

Выводы к 1-й Главе


ГЛАВА 2. ЗАРЯД И ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНЫЕ ЕМКОСТИ ПОВЕРХНОСТНЫХ СОСТОЯНИЙ
§ I. Равновесный заряд в поверхностных состояниях
§ 2. Равновесные дифференциальные емкости
поверхностных состояний
§ 3. Кинетическое уравнение для электронов в
поверхностных состояниях

§ 4. Стационарные заполнения и квазистационарные емкости
поверхностных состояний в неравновесном случав 86 § 5. Малые отклонения от квазистационарного или равновесного состояния
Выводы ко 2-й Главе
ГЛАВА 3. ИМПЕДАНС ПОЛУПРОВОДНИКОВ В СТРУКТУРАХ
С ЕМКОСТНЫМИ КОНТАКТАМИ
§ I. Общие сведения о ЩД-структурах
§ 2. Токи, текущие в полупроводнике
§ 3. Распределение неравновесных носителей заряда в объеме полупроводника при гармонической модуляции
поверхностного потенциала
§ 4. Импеданс полупроводника
§ 5. Импеданс полупроводника для некоторых
частных случаев
5.1. Низкие и высокие частоты измерительного сигнала
5.2. Импеданс полупроводника при отсутствии ПС
5.3. Импеданс германия в ЩП-структурах
5.4. Определение рекомбинационного сопротивления .... 134 §6. Импеданс полупроводника при наличии
поверхностных состояний ,
§ 7. Импеданс полупроводника при больших уровнях
возбуждения
§ 8. Малосигнальный эффект поля в освещенном
полупроводнике
Выводы к 3-й Главе
- 5 -
ГЛАВА 4. МАЛОСИШАЛЬНАЯ ФОТОЭДС В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ
ОБРАЗЦАХ С ЕМКОСТНЫМИ КОНТАКТАМИ
§ I. Распределение неравновесных носителей заряда в полу- .
проводнике при гармоническом фотовозбуждении
§ 2. ФотоЭДС в ВДП-структуре
2.1. Инверсионные изгибы зон
2.2. Малосигнальная фотоЭДС в освещенном полупроводнике
§ 3. ФотоЭДС в ЩПДМ-отруктуре
§ 4. Квазистационарная фотоЭДС и фотоемкостной ток
§ 5. Осциллирующая поверхностная фотоЭДС в п-биАв
на горячих фотоэлектронах
Выводы к 4-й Главе
ГЛАВА 5. КИНЕТИКА ФОТОПРОВОДИМОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ ПРИ НАЛИЧИИ ПШПОВЕРХНОСТНЫХ ОБЛАСТЕЙ ПРОСТРАНСТВЕННОГО ЗАРЯДА
§ I. Стационарная поверхностная фотопроводимость
§ 2. Кинетика малосигнальной импульсной фотопроводимости при наличии приповерхностных ОПЗ
§ 3. Кинетика фотопроводимости в тонких образцах
при больших уровнях фотовозбуждвния
§ 4. Влияние поверхностных состояний на поверхностную
фотопроводимость полупроводников
§ 5. Фотопроводимость и фотоЭДС, связанные с фотоионизацией поверхностных состояний
5.1. Токи, текущие в поверхностные состояния
5.2. Распределение неравновесных носителей заряда
5.3. ФотоЭДС
5.4. Фотопроводимость

потребуются нам в дальнейшем. В таких слоях потенциал затухает по квадратичному закону,
-7(2) = 75 (1- 15)г, «-29>
где (применительно к а -полупроводнику)
113-= 2Ц, -PYs «-30)
- толщина слоя обеднения, а

, . (I.3I)
d3 1 2^Mj
- некоторая характерная длина экранирования, зависящая от концентрации легирующей Примеси N cL
Напряженность электрического поля Ь>(%) затухает с координатой по линейному закону от значения на поверхности до
нулевого значения при 2 =и5" , а величины и , в целом, определяются только легированием материала и размерной величиной поверхностного потенциала
2^j4’
2e0esVs
> Ь>с ~
(1.32 а,б)

и & не зависят от температуры. Заряд слоя обеднения
и его дифференциальная емкость определены равенствами
йгц'Ч^'иГ, = £0£5/яаГ, (1.33 а,б)
имеющими наглядный физический смысл.
Зависимость ЯлТ (у5) (1.30) справедлива до инверсионного изгиба зон; при значениях |у5|>[у5с| возрастание толщины слоя обеднения резко замедляется и она выходит на квазинасыщение при
значении
Ю'оо 21с1э ^ 2 НпДТ (1.34 а)

Рекомендуемые диссертации данного раздела

Время генерации: 0.711, запросов: 967