Структура и перпендикулярная магнитная анизотропия электролитически осажденных пленок никеля и сплавов на его основе

• Автор: Точицкий, Тадеуш Антонович
• Шифр специальности: 01.04.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 1984
• Место защиты: Минск
• Количество страниц: 197 c. : ил

Глава I. СТРУКТУРА И ПЕРПЕНДИКУЛЯРНАЯ МАГНИТНАЯ АНИЗОТРОПИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИ ОСАЖДЕННЫХ ПЛЕНОК НИКЕЛЯ И СПЛАВОВ НА ЕГО ОСНОВЕ (Обзор литературы)
1.1. Магнитные свойства пленок с перпендикулярной анизотропией
1.2. Перпендикулярная магнитная анизотропия
'электролитически осажденных пленок
1.3. Текстура роста в электрически осажденных пленках
1.4. Структура электролитически осажденных
пленок никеля и сплавов на его основе
1.5. Двойники в электролитических осадках,
имеющих ГЦК решетку
1.6. Влияние поверхностно-активных веществ на процесс электрокристаллизации и структуру металлов и сплавов
1.7. Заключение к обзору литературы и постановка задачи
Глава II. МЕТОДИКА ЭКСПЕРШЕЕГА
2.1. Методика электролитического осаждения пленок никеля и сплавов на его основе с перпендикулярной магнитной анизотропией
2.2. Методы исследования кристаллической структуры и субструктуры пленок

2.2.1. Электронографический метод
2.2.2. Электронномикроскопический метод
2.2.3. Методы рентгенографических исследований
субструктуры магнитных пленок
2.3. Методика исследования магнитных характеристик пленок
Глава III. ТЕКСТУРА И М0К0Л0ГИЯ ПОВЕРХНОСТИ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ ПЛЕНОК НИКЕЛЯ, НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО И НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО-МО ЛИБДЕ Н С ПЕРПЕНДИКУЛЯРНОЙ МАГНИТНОЙ АНИЗОТРОПИЕЙ
3.1. Текстура и морфология поверхности подложек
3.2. Зависимость текстуры пленок от их толщины
и характера подложки
3.3. Действие ПАВ на текстуру пленок
3.4. Морфология поверхности пленок
3.4.1. Зависимость морфологии поверхности пленок от кислотности электролита и плотности тока осаждения
3.4.2. Влияние ПАВ на морфологию поверхности пленок
Глава ІУ. КРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ СТРУКТУРА ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ
ПЛЕНОК НИКЕЛЯ, НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО И НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО-МОЛИБДЕН С ПЕРПЕЦЦИКУЛЯРНОЙ МАГНИТНОЙ АНИЗОТРОПИЕЙ
4.1. Структура переходных слоев пленок
4.1.1. Влияние подложки на параметр решетки пленок
4.1.2. Изменение структуры и состава пленок на начальной стадии электрокристаллизации

4.1.3. Влияние подложки на размер кристаллитов
4.1.4. Двойники в переходных слоях пленок
4.2. Зависимость структуры пленок от кислотности электролита и плотности тока осаждения
4.3. Влияние ПАВ на структуру пленок
4.3.1. Влияние ПАВ на размеры кристаллитов
4.3.2. Влияние ПАВ на размеры блоков когерентного
рассеяния рентгеновских лучей ( L окр ) и их взаимную разоривнтировку
4.3.3. Влияние ПАВ на двойникование в пленках
4.3.4. Влияние ПАВ на форму кристаллитов
Глава V. ВЛИЯНИЕ СТРУКТУРЫ И ВНУТРЕННИХ НАПРЯЖЕНИЙ
НА ФОРМИРОВАНИЕ ПЕРПЕВДИКУЛЯРНОЙ МАГНИТНОЙ АНИЗОТРОПИИ В ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ ПЛЕНКАХ НИКЕЛЯ, НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО И НИКЕЛЬ-ЖЕЛЕЗО-МОЛИБДЕН
5.1. Вклад в ПА анизотропии макро- и микрополостей
5.2. Вклад в ПА текстуры роста
5.3. Вклад в ПА внутренних макронапряжеяий ( 6т )
5.4. Вклад в ПА микронапряжений ( 6й )
5.5. Вклад в ПА анизотропии формы кристаллитов и
немагнитных включений
5.6. Влияние двойяикования на формирование ПА в пленках
5.7. Роль подложки в формировании ПА
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ
ЛИТЕРАТУРА

зрачными для электронов (до 1000 А), не будут отражать структуру более толстых пленок, так как с увеличением толщины электролитических осадков уменьшается влияние подложки и изменяется их химический состав /2.1/.
Для электролитически осажденных магнитных пленок, имеющих толщину до I мкм, характерны крайне малые размеры кристаллитов, наличие текстур и термодинамически неравновесных фаз, присутствие почти всех известных дефектов кристаллической решетки. Подготовить такую пленку для электронномикроскопических исследований методом "на просвет" с помощью двухсторонней электролитической полировки исключительно трудно, так как при достижении толщины, прозрачной для электронов, пленочный образец часто разрушается. Кроме того, метод утонения осадков приводит к неконтролируемым изменениям тонкой структуры объектов /2.14/. Ввиду этого для исследования кристаллической структуры и субструктуры тонких электролитически осажденных магнитных пленок в настоящей работе использовались электронографические, электронномикроскопические и рентгенографические методы исследования.
2.2.1. Электронографический метод
Преимуществом электронографии является то, что в связи с малостью длины волны и сильным взаимодействием электронов с веществом с помощью электронографа можно получить резкие и интенсивные рефлексы при гораздо меньших размерах кристаллитов, чем это возможно в рентгенографии. Вместе с тем это обстоятельство обусловливает высокие требования к чистоте объекта: тончайшие загрязнения на поверхности объекта могут дать собственную дифракционную
картину. В настоящей работе электронограф ЭМР-100 использовался

для структурного анализа как очень тонких пленок (до 1000 А),так