Особенности получения и окисления тонких плёнок тройных халькогенидных соединений системы A I BiC VI (A I - Li, K, Rb; C VI - S, Se)

• Автор: Шелест, Игорь Владимирович
• Шифр специальности: 01.04.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2002
• Место защиты: Ставрополь
• Количество страниц: 156 с. : ил

СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. СЛОЖНЫЕ ХАЛЬКОГЕНИДНЫЕ СТЕКЛООБРАЗНЫЕ МАТЕРИАЛЫ И ИХ ХАРАКТЕРНЫЕ ОСОБЕННОСТИ
1Л. Физические характеристики массивных тройных халькогенидных стеклообразных материалов
1.2. Стеклообразование в системах сложных халькогенидных соединений
1.3. Модель трёхцентровой связи в стёклах
1.4. Кластерообразование в стеклообразных веществах
1.5. Закономерности формирования структуры тонкоплёночного
аморфного состояния
1.6. Отличительные особенности тонкоплёночного и массивного стеклообразного состояния
1.7. Особенности кинетики поверхностных процессов и адсорбция газов на поверхности твёрдого тела
1.8. Образование поверхностных окислов
1.9. Выводы по главе 1 и постановка задачи
ГЛАВА 2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ МЕТОДЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ И ИССЛЕДОВАНИЯ КОНДЕНСАТОВ ТРЁХКОМПОНЕНТНЫХ
ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ ВЕЩЕСТВ
2.1. Получение тонких плёнок сложных халькогенидных соединений
2.1.1. Изучение влияния варьирования скорости напыления на свойства получаемых плёнок 5
2.2. Контроль состава полученных образцов на лазерном энергомасс-анализаторе
2.3. Послойный анализ состава плёнок методом вторичной ионной масс-спектрометрии

2.4. Методика термодесорбционных исследований
2.5. Особенности электронно-микроскопического и электронографического исследования структуры трёхкомпонентных плёнок
2.6. Выводы по главе 2
ГЛАВА 3. СОСТАВ И СТРУКТУРА ТРЁХКОМПОНЕНТНЫХ ХАЛЬКОГЕНИДНЫХ ПЛЁНОК, СОДЕРЖАЩИХ ЩЕЛОЧНОЙ ЭЛЕМЕНТ
3.1. Выбор оптимального метода получения тонких слоев А1В1(Ое)СУ1
3.2. Особенности структуры плёнок
3.3. Кластерная модель строения аморфных плёнок
3.4. Взаимосвязь порядкового номера щелочного элемента с размером кластеров аморфных плёнок
3.5. Анализ критерия стабильности плёнок
3.6. Выводы по главе 3
ГЛАВА 4. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ПОВЕРХНОСТНОГО ОКИСНОГОСЛОЯ
4.1. Закономерности окисления аморфных плёнок в атмосферном воздухе

4.2. Закономерности окисления тонкоплёночных образцов под воздействием атмосферы с примесью оксида азота
4.3. Роль адсорбции газов в формировании окисного слоя
4.4. Выводы по главе 4
ГЛАВА 5. ВЛИЯНИЕ ОКСИДА АЗОТА НА ФИЗИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТРЁХКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЁНОК И ИХ ПРАКТИЧЕСКОЕ ПРИМЕНЕНИЕ
5.1. Структурные исследования халькогенидных плёнок, подвергнутых воздействию атмосферы с примесью оксида азота
5.2. Влияние окислительной среды на оптическое пропускание плёнок системы А1В1(Се)СУ|

5.3. Перспективы практического применения полученных результатов для решения задач газоанализа
5.4. Выводы по главе 5
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ

адсорбции начинаются физико-химические процессы в системе газ - твёрдое тело такие как хемосорбция кислорода на поверхности, образование объёмных соединений и молекулярная диффузия, каждый из которых может вносить определённый вклад в изменение структуры и свойств материала. При адсорбции молекулы газовой фазы соприкасаются с поверхностью вещества. Если предположить, что вероятность прилипания равна 1, тогда монослой адсорбированного газа образуется на поверхности при комнатной температуре и давлении 10'4 Па за одну секунду. Однако реальные поверхности не являются чистыми и коэффициенты прилипания очень малы [80]. В адсорбированном состоянии химический состав адсорбированных частиц не соответствует химическому составу газа до адсорбции и после десорбции.
Известно [81], что различия электронной структуры металлов являются причиной различия характера активационного потенциального барьера для перехода в состояние диссоциативной хемосорбции, что приводит к осуществлению разных механизмов адсорбции. Кислород на большинстве чистых металлов хемосорбируется диссоциативно с нулевой энергией активации. Диссоциативная адсорбция требует наличия соответствующих смежных кристаллографических узлов на поверхности металла. Из-за неоднородности поверхности до начала процесса хемосорбции может возникнуть поверхностная диффузия, и при более высокой степени покрытия адсорбатом из-за недостатка соответствующих узлов поверхности может возникнуть повторное испарение, создавая изменение коэффициента прилипания.
Образование сорбированного слоя возможно в металлах при нормальных условиях, когда диффузия замедлена. В наиболее химически активных системах кислорода и азота с металлами адсорбируется более чем 1 монослой газа на первой неактивной стадии с вероятностью прилипания = 1. Толщина таких слоёв достигает 3-10 нм.