Изменение состава и структуры многокомпонентных металлических материалов при бомбардировке их поверхности заряженными высокоэнергетическими частицами в электронных приборах

• Автор: Есаулов, Михаил Николаевич
• Шифр специальности: 01.04.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2005
• Место защиты: Калуга
• Количество страниц: 136 с. : ил.

Глава 1. Основные физические процессы на поверхности и в приповерхностных слоях внутренних элементов электронных приборов при воздействии электронов, ионов и атомных частиц

1.1. Взаимодействие электронов, ионов и атомных частиц

с твердым телом

1.2. Механизмы захвата, реэмиссии и проблемы гелия и

других газов в материалах

Выводы к главе

Глава 2. Техника эксперимента

2.1. Особенности получения образцов для исследования

2.2. Методы исследования диффузии активных компонентов

системы [Си+(Си-Ва0-1л20)+Си], ее состава и структуры

2.3. Методы исследования влияния алюминия и титана (элементы замещения) на поведение ионно-внедренного гелия в модельных сплавах на основе никеля
(сплавы систем №-А1, №-Т1)
Выводы к главе
Глава 3. Физические процессы, связанные с изменением состава и структуры поверхности и приповерхностных слоев многокомпонентных материалов под воздействием электронной,
ионной бомбардировки и ускоренных частиц
3.1. Исследование повреждения многокомпонентных материалов
3.1.1. Повреждение материалов под воздействием электронной
и ионной бомбардировки, их поверхностная топография
3.1.2. Эффекты, обусловленные начальными
неоднородностями поверхности

3.1.3. Эффекты радиационного повреждения
3.1.4. Радиационное шелушение
3.1.5. Эмиссионная способность многокомпонентных материалов с металлической пленкой
3.2. Изучение механизма диффузионных процессов в многокомпонентных материалах с металлической пленкой
3.2.1. Диффузия бария композиции Си-ВаО-1л20 в медное
покрытие системы [(Си-ВаО-1л20)+Си]
3.2.2. Механизм диффузии активных компонентов в медное покрытие системы [(Си-Ва0-1л20)+Си]
3.3. Исследование состава и структуры поверхности и приповерхностных слоев системы [Си+(Си-Ва0-1л20)+Ме] под радиационным воздействием
Выводы к главе
Глава 4. Поведение гелия и развитие газовой пористости в
сплавах никеля
4.1. Влияние легирования на развитие гелиевой пористости
4.2. Захват и выделение ионно-внедренного гелия
4.3. Обсуждение результатов
Выводы к главе
Общие выводы
Список литературы

В электронной и радиоэлектронной промышленности всегда существует проблема повышения долговечности и надежности приборов и электронных компонентов. Ограничение срока службы электронных приборов (вакуумных, газоразрядных, квантовых и др.) во многом определяется процессами, проходящими на поверхности внутри приборных элементов и в их приповерхностных слоях под воздействием высокоинтенсивных потоков электронов, ионов и атомных частиц, которые образуются во время работы рассматриваемых приборов.
Таким образом, важность изучения данных процессов связана не только с фундаментальными задачами (с исследованием физических, физикохимических процессов, протекающих на поверхности и в приповерхностных слоях твердого тела под радиационным воздействием высокоинтенсивных заряженных и нейтральных частиц, в условиях, близких к реальным в работающем изделии.), но и с практической потребностью - долговечностью, надежностью и работоспособностью приборов Выявление закономерностей взаимодействия заряженных и ускоренных частиц с элементами приборов (с твердым телом) позволяет использовать их как для борьбы с нежелательными явлениями, так и для управления физическими процессами с целью повышения качества и долговечности изделия.
Особенно важно знать информацию об изменении состава и структуры поверхности многокомпонентных систем, например, металлооксидных со стабилизирующей металлической пленкой, механизм диффузии и адсорбции, глубину проникновения частиц и энергии при достаточно мощном воздействии.
Взаимодействие атомных частиц с твердым телом с точки зрения стимулирования эмиссионных явлений приводит к различным результатам в зависимости от наличия и величины потенциальной или кинетической энергии у частиц. Очень медленные атомные частицы с энергиями от тепловой до нескольких электронвольт, но обладающие запасом потенциальной энергии

Рис. 2.1. Структура поверхности металлооксидного композиционного Си-Ва0-1л20 катодного материала после термообработки, х200 а - прессованный, 600 °С, 1 ч, вакуум; б - полоса Ф 2 мм, 600 °С, 1 ч, вакуум; в - полоса Ф 0.7 мм, 600 °С, 1 ч, вакуум;