Релаксационные процессы и кристаллизация аморфных диэлектриков на основе Bi1.8Pb0.3Sr2Ca2Cu2,7K0,3Oz и PbTiO3

• Автор: Репников, Николай Иванович
• Шифр специальности: 01.04.07
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2006
• Место защиты: Воронеж
• Количество страниц: 172 с. : ил.

ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА РАБОТЫ

ГЛАВА 1. СТРУКТУРА И СВОЙСТВА НЕКОТОРЫХ АМОРФНЫХ ДИЭЛЕКТРИКОВ И ИХ КРИСТАЛЛИЧЕСКИХ АНАЛОГОВ (обзор)

1.1. Кристаллическая структура ВцЩЬорБьСагСигДСодСБ

1.2. Сегнетоэлектрические свойства некоторых аморфных материалов

1.2.1. Аморфные материалы, полученные на основе

полярных диэлектриков

1.2.2. Сегнетоподобные свойства аморфного

В і і ,8РЬ0.з Sr2Ca2Cu3_xKxOz (х=0.1- 0.4)

1.2.3. Модели возникновения сегнетоэлектрического состояния в аморфных материалах

1.3. Структурная релаксация

1.3.1. Изменение электрических свойств, вызванных

структурной релаксацией
1.3.2. Изменение избыточного объема при структурной
релаксации
1.3.3. Изменение вязкости, обусловленное структурной
релаксацией
1.3.4. Связь внутреннего трения со структурной релаксацией
в металлических стеклах
1.4. Высокотемпературная диэлектрическая релаксация
1.5. Кристаллизация аморфных материалов
ГЛАВА 2. МЕТОДИКИ ИЗМЕРЕНИЙ И ПОЛУЧЕНИЕ ОБРАЗЦОВ
2.1. Получение образцов
2.2. Обоснование выбора методик исследования
2.3. Блок - схемы измерительных установок
2.3.1. Установка для проведения дифференциального термического анализа
2.3.2. Установка для исследования диэлектрической нелинейности
2.3.3. Установка для изучения электрических и диэлектрических параметров
2.3.4. Установка для комплексных исследований инфранизкочастотных механических свойств твердых тел
ГЛАВА 3. ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ И ПОЛЯРИЗАЦИОННЫЕ СВОЙСТВА АМОРФНОГО МАТЕРИАЛА
ВіІ.8РЬ0.з8г2Са2Си3.*КА (х=0.1 -0.5)
3.1. Высокотемпературная диэлектрическая релаксация
аморфного материала Віі.8РЬ0.з8г2Са2Си2дК<);зО2
3.2. Диэлектрический и электрический шум
3.3. Поляризационные исследования аморфного
материала Ві і ,8РЬ0.з 8г2Са2Си2!7Ко;з
3.3.1. Изучение реверсивной нелинейности
3.3.2. Петля диэлектрического гистерезиса Р(Е) в
аморфном материале Ві18РЬо.з8г2Са2Си2!7Ко,з02
ГЛАВА 4. СТРУКТУРНАЯ РЕЛАКСАЦИЯ В АМОРФНОМ
МАТЕРИАЛЕ ВЦ8РЬо.з8г2Са2Си3,7Ко,з02
ГЛАВА 5. КРИСТАЛЛИЗАЦИЯ АМОРФНЫХ МАТЕРИАЛОВ Віі.8РЬо.з8г2Са2Си2,7Ко,з02 И РЬТЮз
5.1. Кристаллизация в изотермических условиях
5.2. Кристаллизация в неизотермических условиях
5.2.1. Кристаллизация аморфного материала Ві].8РЬо.з8г2Са2Си2і7Ко,з02
5.2.2. Кристаллизация аморфного материала РЬТЮ3
5.3. Свойства Віі.8РЬо.з8г2Са2Си2)7КозОг кристаллизованного из

аморфного состояния
5.3.1. Структурные исследования
5.3.2. Измерение внутреннего трения и упругого модуля
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ
ЛИТЕРАТУРА
зависимости внутреннего трения в этом случае не имеют никаких особенностей.
3. Пластическое течение металлических стекол при "кинетически замедленной" структурной релаксации, очевидно, осуществляется через дислокационно-подобный механизм. Образцы, предварительно деформированные одним из таких способов, как ковка, прокатка или гидрирование, обладают специфическим гистерезисом и релаксационным демпфированием, аналогичные тем, которые наблюдаются в кристаллах с дислокациями.
Таким образом, из изложенного выше можно сделать следующий вывод. В результате протекания структурной релаксации во всех аморфных материалах происходит изменение их физических свойств. Проведение исследований по изучению структурной релаксации, как в изотермических, так и неизотермических условиях позволяет выявить закономерности изменения физических свойств конкретных аморфных материалов. Разные методы исследования дают информацию о том или ином виде структурной релаксации. Наибольшую информацию в изучении структурной релаксации дает метод внутреннего трения, однако характерной особенностью этого метода является то, что далеко не все аморфные материалы могут быть исследованы таким методом. Ограничение состоит в типе и размере таких материалов. В частности, к таким материалам относят массивные аморфные материалы, полученные на основе полярных диэлектриков. Высокая хрупкость, малые геометрические размеры и наличие закалочных напряжений сводят на нет применение метода внутреннего трения к изучению процесса структурной релаксации.
В заключение хотелось бы отметить, что кинетика структурной релаксации определяется наличием дефектов в аморфной структуре. Например, в работах [43-45], представлено модельное описание кинетики структурной релаксации с точки зрения наличия в аморфной структуре дислокационноподобных дефектов [43, 44] и сеточных систем мезодефектов [45]. Также структурная релаксация определяется и предысторией образца, а именно, температурной и деформационной обработкой образца. Так в работе [37] го-