Влияние внешних воздействий на релаксорные оксидные кристаллы
- Автор:
Лыу Тхи Ньян
- Шифр специальности:
01.04.04
- Научная степень:
Кандидатская
- Год защиты:
2015
- Место защиты:
Волгоград
- Количество страниц:
105 с. : ил.
Стоимость:
700 р.250 руб.
до окончания действия скидки
00
00
00
00
+
Наш сайт выгодно отличается тем что при покупке, кроме PDF версии Вы в подарок получаете работу преобразованную в WORD - документ и это предоставляет качественно другие возможности при работе с документом
Страницы оглавления работы
Рекомендуемые диссертации данного раздела
| Название работы | Автор | Дата защиты |
|---|---|---|
| Низкотемпературная спектроскопия примесных центров Pr3+ в кристаллах оксиортосиликатов | Юкина, Татьяна Георгиевна | 2004 |
| Роль неравновесных состояний и релаксационных процессов при лазерном формировании полупроводниковых слоев | Битюрин, Юрий Анатольевич | 1985 |
| Тальбот-интерфероматерия оптических элементов лазеров | Коряковский, А.С. | 1983 |