Формирование оптического микрорельефа на диоксиде кремния в плазме газового разряда высоковольтного типа

• Автор: Колпаков, Всеволод Анатольевич
• Шифр специальности: 01.04.01
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2004
• Место защиты: Самара
• Количество страниц: 126 с. : ил.

ГЛАВА 1. ИССЛЕДОВАНИЕ МЕХАНИЗМОВ ФОРМИРОВАНИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ ГАЗОРАЗРЯДНЫМ ПРИБОРОМ ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ТИПА
1.1. Анализ приборов, формирующих низкотемпературную плазму газового разряда высоковольтного типа

1.2. Исследование особенностей низкотемпературной плазмы газового

разряда высоковольтного типа

Выводы
ГЛАВА 2. МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ТРАВЛЕНИЯ ДИФРАКЦИОННОГО МИКРОРЕЛЬЕФА В ПЛАЗМЕ ГАЗОВОГО РАЗРЯДА ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ТИПА
2.1. Анализ частиц плазмы, взаимодействующих с поверхностью обрабатываемого материала
2.2. Исследование механизмов плазмохимического и ионно-химического травления поверхности

2.3. Модель травления. Основные выражения

2.4. Алгоритм и программное обеспечение для расчета скорости травления

Выводы

ГЛАВА 3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ОСОБЕННОСТЕЙ ПРОЦЕССА АНИЗОТРОПНОГО ТРАВЛЕНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ ГАЗОВОГО РАЗРЯДА ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ТИПА
3.1. Методика подготовки образцов для проведения эксперимента по травлению дифракционного микрорельефа в плазме газового разряда высоковольтного типа
3.2. Исследование и оценка достоверности результатов эксперимента и моделирования
3.3. Экспериментальные исследования зависимости скорости травления от процентного содержания кислорода и других физических параметров плазмы
3.4. Анализ качества травления
Выводы
ГЛАВА 4. ИССЛЕДОВАНИЕ МЕХАНИЗМА ФОРМИРОВАНИЯ КАТАЛИТИЧЕСКОЙ МАСКИ МИКРОРЕЛЬЕФА ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ ПРИ ОБЛУЧЕНИИ СТРУКТУРЫ АЛЮМИНИЙ-КРЕМНИЙ ЧАСТИЦАМИ ГАЗОВОГО РАЗРЯДА ВЫСОКОВОЛЬТНОГО ТИПА
4.1. Исследование эффекта увлечения атомов кремния «вакансиями», возникающими в расплаве алюминия при облучении его поверхности частицами газового разряда высоковольтного типа
4.2. Аналитическое описание процесса растворения кремния в расплаве алюминия
4.2.1. Консервативная разностная схема для уравнений диффузии
4.2.2. Результаты разностного решения смешанной задачи
4.2.3. Анализ полученных численных результатов
4.3. Анализ экспериментальных данных
4.4. Методики формирования дифракционного микрорельефа
4.4.1. Методика формирования дифракционного микрорельефа методом плазмохимического травления в плазме ГРВТ
4.4.2. Методика формирования дифракционного микрорельефа методом ионно-химического травления в плазме ГРВТ
4.4.3. Методика формирования дифракционного микрорельефа на основе
применения каталитической маски, формируемой в плазме ГРВТ
Выводы
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ

М/ / т
Рис.2.6. Зависимость параметра (5 от отношения М/т [95]
Поток нейтральных молекул рабочего газа на поверхность подложки рассчитывается по выражениям (2.35) и (2.36). Рассчитанные по перечисленным ранее выражениям величины используются в (2.41) для вычисления скорости плазмохимического травления, а также могут использоваться в других модулях программного обеспечения. Количественное значение скорости травления определяется для всех указанных в базе данных значений напряжения и промежуточных значений (если выбрана соответствующая опция). Из рассчитанных значений скорости травления выбирается максимальное, которому соответствуют свои числовые значения параметров 1/,рпТ, рекомендуемые программой в качестве режима для травления при данном значении тока разряда. Результат расчета представляется также и в графическом виде. Программа выбирает оптимальный масштаб, строит координатную сетку и выводит числовые значения скорости травления и напряжения на электродах газоразрядного прибора возле каждого деления координатной сетки. Каждый из результатов расчета сохраняется в отдельном файле.
Расчет скорости ионно-химического травления осуществляется по выражению: