Исследование процессов травления диоксида кремния, кремния, полимерных пленок в химически активной плотной плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления

Исследование процессов травления диоксида кремния, кремния, полимерных пленок в химически активной плотной плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления

Автор: Изюмов, Михаил Олегович

Шифр специальности: 05.27.01

Научная степень: Кандидатская

Год защиты: 2001

Место защиты: Ярославль

Количество страниц: 159 с. ил

Артикул: 338315

Автор: Изюмов, Михаил Олегович

Стоимость: 250 руб.

Исследование процессов травления диоксида кремния, кремния, полимерных пленок в химически активной плотной плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления  Исследование процессов травления диоксида кремния, кремния, полимерных пленок в химически активной плотной плазме ВЧ индукционного разряда низкого давления 

ОГЛАВЛЕНИЕ
Глава 1. Характеристика и параметры плотной плазмы ВЧ разрядов низкого давления. Конструкции реакторов плотной плазмы. Характеристика плазмы ВЧ индукционного разряда. Влияние магнитного поля на параметры плотной плазмы ВЧ разрядов. Плотность ионного потока, падающего на поверхность ВЧ электрода и его распределение по энергии. Влияние стенок реактора на параметры плотной плазмы ВЧ разрядов. Основные характеристики процессов травления , 8Ю2, полимерных пленок в химически активной плазме низкого давления. Селективное травление 8Ю2, по отношению к операция вскрытия контакгных окон. Травление полимерных пленок в кислородсодержащей плазме ВЧ и СВЧ разрядов низкого давления. Радикальное травление полимерных пленок. Основные выводы и постановка задачи. Глава 2. Экспериментальные установки с реактором ВЧ индукционной плазмы. Методы исследования параметров плазмы и контроля процессов травления. Блок схемы установок и реакторов. Расчет магнитного поля в реакторах. Методы исследования параметров плазмы.


Влияние неоднородного магнитного ноля на характеристики ВЧИ разряда и равномерность ионного потока. VI частота ионизации, У8ль2рр1и2ТееТет1 2ехрТ6, ует частота столкновений электрона с молекулами рабочего газа Р1 и р2 константы входящие в выражения для частоты ионизации V и для частоты столкновений уст. Рассчитанные концентрации и температуры электронов удовлетворительно совпадали с экспериментально полученными Те и пе рис. Представленные на рисунке параметры плазмы были получены для реактора, размеры которого были намного больше диаметр 0,6 м, длина 3,6 м, чем в обычно используемых реакторах травления. Пе, см3
т. Тс расчет
р, Па
0,1

8
Рис. Р Вт, ,6 м, Ь3,2 м . Внутренние характеристики плазмы ВЧИ разряда низкого давления можно было оценить из заданных внешних параметров, исходя из моделей . В их основе лежит представление о плазме как о вторичной катушке трансформатора, первичной катушкой которого являются витки индуктора. Поэтому их можно назвать трансформаторными. Хотя эти модели были разработаны для случая, когда оу1, их можно применить для оценки параметров и бесстолкиовителыюй плазмы. Теоретическое рассмотрение плазмы плоского ВЧ индукционного разряда с помощью гибридных моделей показывает, что распределения температуры и плотности электронов в объеме плазменного реактора, удовлетворительно совпадают с экспериментальными данными . Как в разряде электроположительного газа аргона, так и электроотрицательного кислорода, вся вкладываемая ВЧ мощность поглощалась в ,5 см сканированном слое, а максимальная концентрации электронов наблюдалась в центре реактора.

Рекомендуемые диссертации данного раздела

28.06.2016

+ 100 бесплатных диссертаций

Дорогие друзья, в раздел "Бесплатные диссертации" добавлено 100 новых диссертаций. Желаем новых научных ...

15.02.2015

Добавлено 41611 диссертаций РГБ

В каталог сайта http://new-disser.ru добавлено новые диссертации РГБ 2013-2014 года. Желаем новых научных ...


Все новости

Время генерации: 0.837, запросов: 229