Модификация нетканых клееных материалов швейной и обувной промышленности высокочастотной плазмой пониженного давления

• Автор: Ибрагимов, Рустэм Гарифович
• Шифр специальности: 05.19.01
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2004
• Место защиты: Казань
• Количество страниц: 179 с. : ил.

Принятые обозначения
Глава 1 Нетканые клееные материалы швейной и обувной промышленности и методы их модификации
1.1 Физико-механические и физико-химические свойства нетканых клееных материалов швейной и обувной промышленности
1.1.1 Физико-механические и физико-химические свойства нетканых
клееных материалов применяемых в швейной промышленности
1.1.2. Физико-механические и физико-химические свойства нетканых клееных материалов, применяемых в обувной промышленности
1.2 Традиционные методы модификации нетканых клееных материалов, применяемых в швейной и обувной промышленности
1.3 Электрофизические методы модификации нетканых клееных материалов
1.4 Задачи диссертации
Глава 2 Описание установки для модификации нетканых клееных
материалов в потоке плазмы ВЧЕ разряда пониженного давления, объектов и методов исследования
2.1 Описание ВЧЕ плазменной установки для модификации нетканых клееных материалов и ее характеристики
2.2 Выбор объектов исследования
2.3 Методики проведения исследований и оценка погрешностей измерений характеристик свойств нетканых клееных материалов швейной и обувной промышленности
Глава 3 Экспериментальные исследования влияния воздействия
высокочастотной плазмы пониженного давления на нетканые клееные и композиционные материалы

3.1 Влияние воздействия ВЧЕ плазмы пониженного давления на механические свойства нетканых клееных и композиционных материалов
3.2 Влияние ВЧЕ плазмы пониженного давления на физические свойства нетканых клееных и композиционных материалов
3.3 Влияние воздействия ВЧЕ плазмы пониженного давления на структуру нетканых клееных и композиционных материалов
3.4 Физическая модель взаимодействия ВЧЕ плазмы пониженного давления с неткаными клееными и композиционными материалами
Глава 4. Выработка рекомендаций для промышленного применения ВЧ
плазменной обработки в швейной и обувной промышленности
4.1 Выработка рекомендаций для промышленного применения
ВЧ плазменной обработки в обувной промышленности
4.2 Выработка рекомендаций для промышленного применения ВЧЕ плазменной обработки в швейной промышленности
Выводы
Литература
Приложения
ПРИНЯТЫЕ ОБОЗНАЧЕНИЯ
ВММ - высокомолекулярные материалы
ДВХБ - бутадиен-винилиденхлоридный латекс
БМС - бутадиен-метилстирольный латекс
ПВА - поливинилацетатная дисперсия
НТП - низкотемпературная плазма
ВЧЕ - высокочастотный емкостной разряд
I - время обработки
Р - давление в вакуумной камере
Рр - мощность разряда
О - расход плазмообразующего газа
Т - температура
5 - Относительное удлинение при растяжении
о - предел прочности при растяжении
Рн - разрывная нагрузка
Н - жесткость
X - истираемость
Ьу - относительное изменение линейных размеров при
увлажнении
Ьв - относительное изменение линейных размеров при
высушивании Ов - впитываемость
АБп - прочность склеивания

При помощи диагностического оборудования 7 во всех экспериментах контролировали входные параметры плазменной установки: значения ВЧ напряжений, мощности, потребляемой установкой и генератором, частоту генератора, и определяли параметры разряда: мощность, вкладываемую в разряд, скорость плазменного потока, напряженность магнитного поля, плотность тока.
Измерение напряжения высокой частоты проводили электростатическими вольтметрами С196 и С50. Измерение частоты генераторов проводили с помощью электронно-счетного частотометра 43-44.
Мощности, потребляемые установкой и генератором, определяли измерительным комплексом К-50. Мощность в разряде определяли как сумму потерь за счет теплопроводности, излучения и теплосодержания струи.
Скорость плазменного потока измеряли при помощи модифицированной трубки Пито.
Для измерения напряженности магнитного поля применяли миниатюрный магнитный зонд.
Измерение плотности тока проводили при помощи миниатюрного пояса Роговского.
Для измерения давления в разрядной камере использовали компрессорный вакуумметр.
При плазменной обработке образцы размещали в зазоре между параллельными вертикально расположенными электродами 2.2 вдоль потока плазмообразующего газа.
Обработку образцов проводили следующим образом. Производили предварительную откачку вакуумной камеры. В вакуумную камеру напускали рабочий газ. Регулировкой вентиля, соединяющего вакуумную камеру с вакуумным насосом, устанавливали заданное давление. При подаче на электроды ВЧ напряжения в разрядной камере за счет нагрева плазмообразующего газа до состояния плазмы образуется плазменный поток - инструмент обработки. Режим плазменной обработки регулировали путем изменения расхода газа в, мощности ВЧЕ разряда Рр, давления в разрядной камере Р, длительности обработки г.