Электроосаждение композиционных электрохимических покрытий на основе цинка в нестационарном режиме

• Автор: Шевченко, Татьяна Юрьевна
• Шифр специальности: 02.00.05
• Научная степень: Кандидатская
• Год защиты: 2014
• Место защиты: Саратов
• Количество страниц: 153 с. : ил.

Используемые обозначения
6 - толщина покрытия, мкм;
к— катодная плотность тока, А/см2;
I а- анодная плотность тока, А/см2;
Ц - время катодной поляризации, с;
1а - время анодной поляризации, с; пк- число циклов катодной поляризации; па— число циклов анодной поляризации;
<3К — количество электричества, прошедшее в анодный период; (Д - количество электричества, прошедшее в анодный период; I - время, с;
Б - площадь поверхности электрода, м2;
Ек - потенциал катода, В;
Еа - потенциал анода, В;
АЕ - защитная способность покрытия, мВ;
С, - электрокинетический потенциал, В;
т) - динамическая вязкость дисперсионной среды, Па-с;
р — плотность раствора, кг/м3;
V - кинематическая вязкость жидкости, мм2/с;
НУ - твердость по методу Виккерса (кг/мм2);
Б - число Фарадея = 96500 Кл/моль;
/ - коэффициент трения; йкрист _ перенапряжение кристаллизации, мВ; рНц - pH приэлектродного слоя;
СПол - поляризационная емкость, Ф/см2;
Опт - коллоидный графит;
УМ - углеродные материалы;
ДФ - дисперсная фаза;
КЭП - композиционные электрохимические покрытия;
КЭМ - композиционные электрохимические материалы;
КЭП Ъх - Сколл- композиционные электрохимические покрытия цинк коллоидный графит;
ИТ - импульсный ток;
РТ - реверсивный ток;
ПТ - постоянный ток;
РС - рассеивающая способность электролита, %;
УДА - ультрадисперсные алмазы;
ПАВ - поверхностно-активные вещества;
ПДК - потенциодинамические кривые; у - функция отклика; в - критерий Кохрена.
Содержание

Используемые обозначения
Введение
Г лава 1. Литературный обзор
1.1 Особенности электроосаждения цинковых покрытий
1.2 Электроосаждение КЭП: свойства, применение
1.3 Композиционные электрохимические покрытия с цинковой 23 матрицей
1.4 Влияние нестационарного тока на структуру и свойства 29 металлических и композиционных электрохимических покрытий
Глава 2. Методика эксперимента
Глава 3. Электроосаждение цинка в стационарном и реверсивном режимах
из сульфатного электролита
Глава 4. Электроосаждение КЭП Ъл - коллоидный графит в стационарном
и реверсивном режимах
4 Л Влияние концентрации коллоидного графита на кинетику
электроосаждения композиционных покрытий
4.2 Кинетика электроосаждения КЭП в реверсивном режиме
Глава 5. Разработка технологических рекомендаций по электроосаждению
КЭП 2п-СК0ЛЛ
5.1 Оптимизация параметров технологического процесса 95 электроосаждения КЭП Ъа. - Сколл в реверсивном режиме
5.2. Влияние режима электролиза на физико-химические и
механические свойства 2п и КЭП Ъл - Сколл Выводы
Список использованной литературы
Приложения

поляризации постоянным током. Известны случаи практического применения токов, плотность которых в 2-100 раз превышает предельную диффузионную. При этом с ростом плотности такого тока необходимо сокращать длительность его импульсов. В случае постоянного тока на предельной диффузионной плотности Сд) (или даже при ц более 1/2 1д) вести процесс осаждения компактного металла не представляется возможным: быстро развивается шероховатость поверхности, а при использовании импульсного или реверсивного режима возможно на максимально допустимой плотности тока 0к= 1/2 у и при больших значениях [28].
С повышением 1а скорость активного растворения возрастает, что приводит к удалению примесных атомов (в частности водорода) с поверхности растущих кристаллов металла. Степень структурного совершенства электроосаждёшюш металла зависит от соотношения длительности катодной поляризации и паузы, от соотношения длительности катодной и анодной поляризации, а также и величины 1к и 1а, возрастает с увеличением величины анодной составляющей плотности периодического тока. Начальная концентрация ионов металла в приэлектродном слое восстанавливается [28].
Следует отметить, что интенсификация процесса при использовании нестационарных форм тока связана с увеличением 1к в импульсе.
После катодного импульса концентрация ионов разряжающегося металла у поверхности катода сильно падает, что приводит к росту перенапряжения, и в результате этого изменяются условия образования новых кристаллических зародышей. При том же общем количестве осажденного металла число зародышей при импульсном режиме оказывается существенно больше. В результате кристаллы осадка получаются тем более мелкими, чем выше импульс катодного тока при постоянном количестве электричества (() = 1-1) в нем. А мелкозернистые осадки обладают более высокой твердостью, пластичны и обьино имеют более низкие внутренние напряжения, менее пористы и т.д.